多晶硅还原炉内壁抛光装置的设计
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第9-11页 |
| 1.2 国内外抛光装置研究现状分析 | 第11-14页 |
| 1.3 研究内容和技术路线 | 第14-15页 |
| 1.3.1 研究内容 | 第14-15页 |
| 1.3.2 技术路线 | 第15页 |
| 1.4 本章小结 | 第15-16页 |
| 第二章 多晶硅还原炉内壁污染物附着特性研究 | 第16-26页 |
| 2.1 主要污染物特性分析 | 第16-18页 |
| 2.1.1 主要污染物介绍 | 第16-18页 |
| 2.1.2 污染物表面附着受力分析 | 第18页 |
| 2.2 污染物去除运动状态分析 | 第18-19页 |
| 2.3 多晶硅还原炉内部流场温度场数值模拟 | 第19-25页 |
| 2.3.1 计算流体力学控制方程介绍 | 第19-20页 |
| 2.3.2 流场模型建立及相关参数设置 | 第20-23页 |
| 2.3.3 结果分析 | 第23-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 抛光装置总体设计与三维建模 | 第26-36页 |
| 3.1 抛光装置结构设计基本要求 | 第26页 |
| 3.2 抛光装置总体方案设计 | 第26-28页 |
| 3.2.1 关节型抛光装置方案 | 第26-27页 |
| 3.2.2 滑轨型抛光装置方案 | 第27-28页 |
| 3.3 抛光装置关键部件的设计 | 第28-35页 |
| 3.3.1 设计参数 | 第28页 |
| 3.3.2 支撑部分设计 | 第28-29页 |
| 3.3.3 传动系统设计 | 第29-32页 |
| 3.3.4 抛光装置执行部分设计 | 第32-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 抛光头抛光过程模型建立与仿真分析 | 第36-46页 |
| 4.1 抛光头抛光时的接触状态分析 | 第36-37页 |
| 4.2 抛光过程材料去除量模型建立 | 第37-39页 |
| 4.3 速度自适应模型建立 | 第39-40页 |
| 4.4 抛光头质点抛光轨迹曲线 | 第40-42页 |
| 4.5 抛光装置运动仿真分析 | 第42-45页 |
| 4.5.1 确定参数 | 第42-43页 |
| 4.5.2 添加材料属性 | 第43页 |
| 4.5.3 添加约束 | 第43-44页 |
| 4.5.4 添加驱动 | 第44页 |
| 4.5.5 设置仿真参数 | 第44页 |
| 4.5.6 仿真结果分析 | 第44-45页 |
| 4.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 抛光装置关键部件有限元分析 | 第46-52页 |
| 5.1 机架支撑模态分析 | 第46-47页 |
| 5.2 抛光头支架静力分析 | 第47-49页 |
| 5.3 抛光头支架模态分析 | 第49-51页 |
| 5.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 结论与展望 | 第52-53页 |
| 6.1 结论 | 第52页 |
| 6.2 展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 作者简介 | 第56-57页 |
| 附件 | 第57页 |
