| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-21页 |
| ·ZnO材料的结构特性与应用 | 第11-13页 |
| ·ZnO材料的结构 | 第11页 |
| ·光学性质 | 第11-12页 |
| ·电学性质 | 第12页 |
| ·压电性质 | 第12-13页 |
| ·CdO材料的结构与光电特性 | 第13-14页 |
| ·CdO材料的结构特性 | 第13页 |
| ·CdO薄膜的光学性质 | 第13页 |
| ·CdO薄膜的电学性质 | 第13-14页 |
| ·ZnCdO合金材料与器件 | 第14-19页 |
| ·ZnCdO薄膜的研究现状 | 第14-18页 |
| ·ZnCdO合金器件的研究 | 第18-19页 |
| ·选题意义与研究内容 | 第19-21页 |
| 2 薄膜制备技术 | 第21-27页 |
| ·雾化热分解法(Spray pyrolysis) | 第21页 |
| ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第21-22页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第22-23页 |
| ·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第23-24页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第24页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第24-25页 |
| ·热蒸发 | 第25-26页 |
| ·电子束蒸发 | 第26-27页 |
| 3 薄膜样品的制备与表征 | 第27-32页 |
| ·薄膜制备 | 第27页 |
| ·衬底清洗 | 第27页 |
| ·ZnCdO薄膜的沉积过程 | 第27页 |
| ·薄膜分析技术 | 第27-32页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第28页 |
| ·场发射扫描电镜(FESEM)测试 | 第28-29页 |
| ·光致发光(PL)谱 | 第29-30页 |
| ·透射光谱 | 第30页 |
| ·霍尔(Hall)效应 | 第30-32页 |
| 4 蓝宝石衬底上生长的ZnCdO薄膜的结构形貌和光电特性分析 | 第32-38页 |
| ·沉积温度和退火温度对ZnCdO薄膜结构特性的影响 | 第32-34页 |
| ·沉积温度对ZnCdO薄膜晶体结构的影响 | 第32-33页 |
| ·退火温度不同对ZnCdO薄膜晶体结构的影响 | 第33-34页 |
| ·沉积温度对表面形貌的影响 | 第34页 |
| ·沉积温度对ZnCdO薄膜光学特性的影响 | 第34-36页 |
| ·沉积温度对ZnCdO薄膜透射率的影响 | 第34-36页 |
| ·沉积温度对ZnCdO薄膜光致发光特性的影响 | 第36页 |
| ·沉积温度对ZnCdO薄膜电学特性的影响 | 第36-38页 |
| 5 不同衬底对ZnCdO薄膜结构形貌和光电特性的影响 | 第38-43页 |
| ·不同衬底对ZnCdO薄膜晶体结构的影响 | 第38-39页 |
| ·不同衬底对ZnCdO薄膜的表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·不同衬底对ZnCdO薄膜光学特性的影响 | 第40-42页 |
| ·不同衬底对ZnCdO薄膜电学特性的影响 | 第42-43页 |
| 6 总结与展望 | 第43-45页 |
| ·总结 | 第43页 |
| ·ZnCdO合金薄膜的应用展望 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
