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机器人曲面抛光的工具接触状态分析与多方向性轨迹工艺控制

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-21页
    1.1 课题背景及研究意义第11-12页
    1.2 国内外研究现状及分析第12-18页
        1.2.1 引言第12-13页
        1.2.2 抛光去除深度模型研究第13-16页
        1.2.3 抛光轨迹规划技术第16-18页
    1.3 主要工作及文章结构第18-21页
        1.3.1 课题来源第18-19页
        1.3.2 论文主要工作第19页
        1.3.3 文章结构第19-21页
第二章 平面柔性抛光的材料去除建模第21-34页
    2.1 引言第21页
    2.2 抛光盘力学特性实验第21-22页
    2.3 平面抛光材料去除深度建模第22-30页
        2.3.1 抛光力拟合及接触区域确定第23-25页
        2.3.2 平面抛光接触压强分布第25-27页
        2.3.3 平面抛光相对速度分布第27-29页
        2.3.4 材料去除深度建模第29-30页
    2.4 平面抛光材料去除实验验证第30-33页
    2.5 本章小结第33-34页
第三章 曲面柔性抛光的材料去除建模第34-51页
    3.1 引言第34页
    3.2 支持向量机第34-37页
        3.2.1 支持向量机原理第34-36页
        3.2.2 网格搜索参数寻优第36-37页
    3.3 曲面抛光材料去除深度建模第37-45页
        3.3.1 曲面抛光接触区域确定第37-40页
        3.3.2 基于支持向量机的抛光力预测第40-41页
        3.3.3 曲面抛光接触压强分布第41-42页
        3.3.4 材料去除深度建模第42-44页
        3.3.5 凹曲面及马鞍面材料去除分析第44-45页
    3.4 曲面抛光材料去除实验验证第45-49页
    3.5 本章小结第49-51页
第四章 三维摆线轨迹生成及优化控制第51-66页
    4.1 引言第51页
    4.2 ABF++轨迹生成技术第51-55页
        4.2.1 ABF++算法原理第52-54页
        4.2.2 网格曲面轨迹生成技术第54-55页
    4.3 三维摆线生成及参数优化第55-62页
        4.3.1 摆线轨迹介绍第56-57页
        4.3.2 基于ABF++的三维摆线生成第57-59页
        4.3.3 摆线轨迹抛光工艺优化第59-62页
    4.4 单道轨迹材料去除仿真对比第62-64页
    4.5 本章小结第64-66页
第五章 抛光工艺优化实验验证与分析第66-77页
    5.1 引言第66页
    5.2 离线编程仿真系统搭建第66-69页
        5.2.1 系统功能划分及实现第66-67页
        5.2.2 操作流程第67-69页
    5.3 实验设备介绍第69-70页
    5.4 摆线优化对比实验第70-76页
        5.4.1 实验工件预处理第70-71页
        5.4.2 抛光实验过程及结果分析第71-76页
    5.5 本章小结第76-77页
第六章 总结与展望第77-79页
    6.1 全文总结第77-78页
    6.2 主要创新点第78页
    6.3 未来工作展望第78-79页
参考文献第79-83页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第83-84页
致谢第84-85页
附件第85页

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