| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第16-32页 |
| 1.1 引言 | 第16-17页 |
| 1.2 集成电路制造光刻工艺简介 | 第17-20页 |
| 1.2.1 光刻工艺流程 | 第18-20页 |
| 1.2.2 现状和发展趋势 | 第20页 |
| 1.3 光学邻近效应 | 第20-22页 |
| 1.4 分辨率增强技术 | 第22-28页 |
| 1.4.1 光学邻近校正 | 第22-23页 |
| 1.4.2 次分辨率辅助图形 | 第23-24页 |
| 1.4.3 浸没式光刻 | 第24-26页 |
| 1.4.4 离轴照明 | 第26-28页 |
| 1.4.5 其他分辨率增强技术 | 第28页 |
| 1.5 可制造性设计 | 第28-30页 |
| 1.6 论文的研究内容、创新点和结构 | 第30-31页 |
| 1.7 本章小结 | 第31-32页 |
| 第2章 光学邻近校正技术和热点管理技术 | 第32-45页 |
| 2.1 引言 | 第32-33页 |
| 2.2 光学邻近校正技术 | 第33-41页 |
| 2.2.1 光刻成像建模 | 第33-37页 |
| 2.2.2 基于规则的光学邻近校正技术 | 第37-39页 |
| 2.2.3 基于模型的光学邻近校正技术 | 第39-40页 |
| 2.2.4 其他光学邻近校正技术 | 第40-41页 |
| 2.3 热点检测与管理技术 | 第41-44页 |
| 2.3.1 基于机器学习的热点检测 | 第42-43页 |
| 2.3.2 基于可制造模型的热点检测 | 第43页 |
| 2.3.3 基于模式识别的热点管理 | 第43-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 稀疏矩阵式光学邻近校正算法 | 第45-58页 |
| 3.1 引言 | 第45-49页 |
| 3.2 光强敏感区域 | 第49-50页 |
| 3.3 二分法求取光强敏感区域 | 第50-52页 |
| 3.4 应用光强敏感区域稀疏化雅可比矩阵 | 第52-54页 |
| 3.5 实验结果和比较 | 第54-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 校正目标导向的光学邻近校正 | 第58-78页 |
| 4.1 引言 | 第58-59页 |
| 4.2 一种适用于图像传感器像素阵列的光学邻近校正方法 | 第59-66页 |
| 4.2.1 图像传感器及其像素阵列 | 第59-60页 |
| 4.2.2 像素阵列的层次化光学邻近校正 | 第60-62页 |
| 4.2.3 像素阵列的对称化光学邻近校正 | 第62-64页 |
| 4.2.4 实验结果和比较 | 第64-66页 |
| 4.3 适用于间隙分布优化后的一维版图的快速光学邻近校正方法 | 第66-77页 |
| 4.3.1 一维栅格化设计规则 | 第66-68页 |
| 4.3.2 一维版图的间隙分布对光刻友好性的影响 | 第68-71页 |
| 4.3.3 线端间隙分布的优化 | 第71-73页 |
| 4.3.4 线端间隙分布优化后一维版图的快速光学邻近校正 | 第73-75页 |
| 4.3.5 实验结果和比较 | 第75-77页 |
| 4.4 本章小结 | 第77-78页 |
| 第5章 基于晶圆检查和设计版图模式识别的热点管理 | 第78-106页 |
| 5.1 引言 | 第78-80页 |
| 5.2 基于晶圆检查和设计版图模式识别的热点管理流程 | 第80-90页 |
| 5.2.1 晶圆缺陷检查 | 第81-82页 |
| 5.2.2 缺陷对应的热点版图提取 | 第82-84页 |
| 5.2.3 缺陷/热点过滤 | 第84页 |
| 5.2.4 缺陷/热点分类 | 第84-85页 |
| 5.2.5 缺陷/热点危险度排序 | 第85-86页 |
| 5.2.6 关键缺陷/热点确认 | 第86页 |
| 5.2.7 热点筛选和热点库建立 | 第86-87页 |
| 5.2.8 热点库应用 | 第87-88页 |
| 5.2.9 基于晶圆检查和设计版图模式识别的热点管理流程实例 | 第88-90页 |
| 5.3 基于高阶局部自相关和离散二维相关的热点分类 | 第90-104页 |
| 5.3.1 中心偏移条件下的热点相似度问题 | 第90-91页 |
| 5.3.2 离散二维相关与热点相似度 | 第91-93页 |
| 5.3.3 聚类算法 | 第93-94页 |
| 5.3.4 高阶局部自相关与特征提取 | 第94-96页 |
| 5.3.5 主成分分析与特征向量降维 | 第96-98页 |
| 5.3.6 降维后的热点特征向量距离 | 第98-99页 |
| 5.3.7 层次化热点分类 | 第99-100页 |
| 5.3.8 实验结果和比较 | 第100-104页 |
| 5.4 本章小结 | 第104-106页 |
| 第6章 总结和展望 | 第106-109页 |
| 6.1 论文总结 | 第106-107页 |
| 6.2 工作展望 | 第107-109页 |
| 参考文献 | 第109-116页 |
| 作者简历及在学期间取得的科研成果 | 第116-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
