| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第16-41页 |
| 1.1 引言 | 第16-17页 |
| 1.2 典型二维材料简介 | 第17-27页 |
| 1.2.1 石墨烯 | 第17-19页 |
| 1.2.2 硅烯 | 第19-21页 |
| 1.2.3 石墨炔 | 第21-22页 |
| 1.2.4 二维过渡金属硫属化物 | 第22-27页 |
| 1.3 二维半导体材料的电子结构和带阶 | 第27-31页 |
| 1.4 二维材料的大规模生长 | 第31-35页 |
| 1.4.1 机械剥离法 | 第32页 |
| 1.4.2 水热法 | 第32-33页 |
| 1.4.3 溶液剥离法 | 第33-34页 |
| 1.4.4 电化学法及超声法 | 第34页 |
| 1.4.5 化学气相沉积法 | 第34-35页 |
| 1.5 材料的表征方法 | 第35-38页 |
| 1.5.1 X射线衍射法 | 第35-36页 |
| 1.5.2 扫描电子显微术 | 第36页 |
| 1.5.3 原子力显微术 | 第36-37页 |
| 1.5.4 光致发光谱 | 第37页 |
| 1.5.5 拉曼散射光谱 | 第37-38页 |
| 1.5.6 透射电子显微镜 | 第38页 |
| 1.6 研究目的 | 第38-41页 |
| 1.6.1 研究目的与意义 | 第38-39页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第39-41页 |
| 第2章 二维WO_3纳米薄膜的合成及光电性质的研究 | 第41-51页 |
| 2.1 研究动机与意义 | 第41-43页 |
| 2.2 二维WO_3纳米薄膜的合成 | 第43页 |
| 2.2.1 实验耗材与设备 | 第43页 |
| 2.2.2 二维WO_3纳米薄膜的合成 | 第43页 |
| 2.3 二维WO_3纳米薄膜材料表征 | 第43-44页 |
| 2.4 二维WO_3纳米薄膜紫外光电传感器的制备及测试 | 第44-47页 |
| 2.5 二维WO_3纳米薄膜气敏响应特性 | 第47-50页 |
| 2.5.1 测试系统的建立 | 第47-48页 |
| 2.5.2 WO_3纳米薄膜的电阻温度关系(R-T曲线) | 第48-49页 |
| 2.5.3 WO_3纳米薄膜对氧化性气体NO_2的气敏效应 | 第49页 |
| 2.5.4 WO_3纳米薄膜对还原性气体H_2的气敏效应 | 第49-50页 |
| 2.6 本章小结 | 第50-51页 |
| 第3章 二维VS_2纳米片的合成及锂电池阳极材料 | 第51-61页 |
| 3.1 研究动机与意义 | 第51-52页 |
| 3.2 花状VS_2纳米片结构的合成 | 第52页 |
| 3.3 样品表征 | 第52-53页 |
| 3.4 CR2025型纽扣电池的制备与电化学测试 | 第53页 |
| 3.5 花状VS_2纳米片材料表征 | 第53-56页 |
| 3.6 花状VS_2纳米片材料锂电池阳极材料电化学性能测试 | 第56-58页 |
| 3.7 VS_2纳米片和纳米花磁性的研究 | 第58-60页 |
| 3.8 本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 二维SnS_2纳米薄膜的合成及场晶体效应管 | 第61-69页 |
| 4.1 研究动机与意义 | 第61-62页 |
| 4.2 二维SnS_2纳米薄膜的合成 | 第62页 |
| 4.3 二维SnS_2纳米薄膜材料表征 | 第62-63页 |
| 4.4 二维SnS_2纳米薄膜材料能带结构计算 | 第63-65页 |
| 4.5 二维SnS_2纳米薄膜光敏场效应晶体管器件制备及表征 | 第65-68页 |
| 4.6 本章小结 | 第68-69页 |
| 第5章 AlN纳米薄膜图形化蓝宝石衬底的制备及LED芯片 | 第69-83页 |
| 5.1 研究动机与意义 | 第69-70页 |
| 5.2 图形化蓝宝石衬底的制备 | 第70-73页 |
| 5.2.1 LED图形化蓝宝石制备流程 | 第70页 |
| 5.2.2 干刻蚀模式及原理 | 第70-73页 |
| 5.3 图形化蓝宝石衬底的表征 | 第73-77页 |
| 5.3.1 ICP功率对刻蚀速率和选择比的影响 | 第74-75页 |
| 5.3.2 Bias功率对刻蚀速率和选择比的影响 | 第75页 |
| 5.3.3 BTM温度对刻蚀速率和选择比的影响 | 第75页 |
| 5.3.4 BC13气体流量对刻蚀速率和选择比的影响 | 第75-76页 |
| 5.3.5 参数优化后的不同形貌图形化衬底 | 第76-77页 |
| 5.4 不同显微形貌的衬底外延芯片后实验结果 | 第77-79页 |
| 5.4.1 类蒙古包形衬底外延后 | 第78页 |
| 5.4.2 类圆锥形衬底外延后 | 第78-79页 |
| 5.5 PSS基AlN薄膜制备方法 | 第79-80页 |
| 5.6 PSS基AlN薄膜表征及性能测试 | 第80-82页 |
| 5.7 本章小结 | 第82-83页 |
| 结论与展望 | 第83-86页 |
| 参考文献 | 第86-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第100-101页 |
| 附录B 攻读学位期间所申请的专利 | 第101页 |
