| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-31页 |
| 1.1 课题来源和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 复杂微纳结构制备现状综述 | 第11-25页 |
| 1.3 硅基微纳加工主要方法概述 | 第25-30页 |
| 1.4 本文研究内容 | 第30-31页 |
| 2 基于 ICP 的超疏水宽波段抗反射硅基微纳结构制备 | 第31-54页 |
| 2.1 引言 | 第31页 |
| 2.2 ICP 刻蚀机理研究 | 第31-35页 |
| 2.3 硅基超疏水宽波段抗反射微纳结构的制备方案设计 | 第35-37页 |
| 2.4 锥形轮廓光刻胶掩膜的制备 | 第37-45页 |
| 2.5 基于 BOSCH 工艺的微纳结构制备 | 第45-47页 |
| 2.6 微纳结构性能测试 | 第47-52页 |
| 2.7 本章小结 | 第52-54页 |
| 3 基于 ICP 的硅基分层微纳结构的制备 | 第54-89页 |
| 3.1 引言 | 第54页 |
| 3.2 分层微纳结构的制备方案设计 | 第54-56页 |
| 3.3 ICP-BOSCH 主要参数对侧壁波纹的影响研究 | 第56-65页 |
| 3.4 倾斜镀膜工艺研究 | 第65-70页 |
| 3.5 硅的各向异性湿法腐蚀研究 | 第70-82页 |
| 3.6 分层微纳结构性能测试 | 第82-88页 |
| 3.7 本章小结 | 第88-89页 |
| 4 总结与展望 | 第89-91页 |
| 4.1 全文总结 | 第89-90页 |
| 4.2 工作展望 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-102页 |
| 附录 攻读学位期间发表学术论文目录 | 第102页 |
