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EDXRF法检测大米中痕量重金属元素的关键技术研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 引言第10-23页
    1.1 选题背景及研究意义第10-13页
    1.2 EDXRF检测装置的研究现状第13-20页
        1.2.1 仪器设备的研究概况第13-17页
        1.2.2 数据处理与解析技术的发展概况第17-20页
    1.3 大米中重金属元素X荧光分析光谱仪的技术要求第20页
    1.4 课题来源、研究内容及创新点第20-23页
        1.4.1 课题来源第20页
        1.4.2 研究内容第20-22页
        1.4.3 创新点第22-23页
第2章 基本原理与关键性技术第23-37页
    2.1 基本原理第23-24页
    2.2 EDXRF的数据处理技术第24-28页
        2.2.1 定性分析方法第24-27页
        2.2.2 定量计算方法第27-28页
    2.3 关键性技术的研究方案第28-37页
        2.3.1 大米中重金属X荧光分析的难点及关键性技术第28-29页
        2.3.2 关键性器部件的设计与选择第29-37页
第3章 XRF低背景高灵敏度探测装置的研究第37-57页
    3.1 探测装置的最优化设计第37-43页
        3.1.1“源-样-探”几何结构第37-40页
        3.1.2 样品最佳几何形状第40-43页
    3.2 X射线管的最佳工作条件第43-48页
        3.2.1 X射线管阳极靶材的选择及厚度确定第43-46页
        3.2.2 管压管流的确定第46-47页
        3.2.3 最佳测量时间的确定第47-48页
    3.3 滤光片的选择第48-54页
        3.3.1 初级滤光片第48-49页
        3.3.2 次级滤光片第49-51页
        3.3.3 滤光片厚度第51-54页
    3.4 转换靶装置设计第54-57页
        3.4.1 转换靶靶材选择第54-55页
        3.4.2 转换靶几何布置第55-57页
第4章 探测装置几何布置的MC模拟第57-82页
    4.1 蒙特卡罗方法原理第57-58页
        4.1.1 蒙特卡罗方法的基本原理第57页
        4.1.2 蒙特卡罗程序简介第57-58页
    4.2 楔形样品何结构模拟第58-75页
        4.2.1 源-探垂直布置模拟第58-65页
        4.2.2 源-探贴边布置模拟第65-70页
        4.2.3 源-探等高布置模拟第70-75页
    4.3 球形样品的模拟结果第75-78页
    4.4 圆柱形样品的模拟结果第78-80页
    4.5 三种形状样品的模拟结果对比分析第80页
    4.6 本章小结第80-82页
第5章 测量条件的MC模拟第82-99页
    5.1 X射线管的工作参数模拟第82-84页
        5.1.1 管压的模拟第82-83页
        5.1.2 抽样次数的模拟第83-84页
    5.2 滤光片模拟第84-94页
        5.2.1 初级滤光片的模拟第84-92页
        5.2.2 次级滤光片的模拟第92-94页
    5.3 转换靶模拟第94-97页
        5.3.1 反射靶激发第95-96页
        5.3.2 透射靶激发第96-97页
    5.4 本章小结第97-99页
第6章 实验与分析第99-107页
    6.1 实验方案第99-101页
    6.2 实验结果及分析第101-106页
        6.2.1 校正曲线的建立第101-103页
        6.2.2 有关计算公式第103-104页
        6.2.3 实验结果对比第104-106页
    6.3 本章小结第106-107页
结论第107-108页
致谢第108-109页
参考文献第109-116页
攻读学位期间取得学术成果第116页

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