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基于40纳米工艺的低失调带隙基准的设计

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第8-11页
    1.1 课题背景第8页
    1.2 带隙基准的发展现状与趋势第8-9页
        1.2.1 低压带隙基准第8-9页
        1.2.2 低温度系数第9页
        1.2.3 高电源纹波抑制比第9页
        1.2.4 低失调基准的设计第9页
    1.3 本文主要工作与章节安排第9-11页
第二章 带隙基准理论基础第11-26页
    2.1 基准电压的指标与分类第11-17页
        2.1.1 基准电压的指标第11-12页
        2.1.2 基准电压的分类第12-17页
    2.2 带隙基准的基本原理与传统结构第17-21页
        2.2.1 基本原理第17-19页
        2.2.2 传统带隙基准结构第19-21页
    2.3 CMOS工艺的不理想因素及影响第21-25页
        2.3.1 CMOS工艺的不理想因素第21-25页
        2.3.2 直流失调对带隙的影响第25页
    2.4 本章小结第25-26页
第三章 带隙基准电路设计与仿真第26-39页
    3.1 本文带隙基准结构框图第26页
    3.2 带隙基准主体电路的设计第26-27页
    3.3 低失调误差放大器的设计与仿真第27-34页
        3.3.1 斩波消除失调第27-29页
        3.3.2 低失调放大器的设计第29-32页
        3.3.3 仿真结果与分析第32-34页
    3.4 电压按比例缩放DAC的设计与仿真第34-38页
        3.4.1 电压按比例缩放DAC的设计第34-36页
        3.4.2 仿真结果第36-38页
    3.5 本章小结第38-39页
第四章 带隙基准版图设计与验证第39-45页
    4.1 带隙基准版图的设计第39-40页
    4.2 主要性能指标的仿真第40-44页
        4.2.1 温度系数第41页
        4.2.2 线性调整率第41-42页
        4.2.3 精度第42-44页
    4.3 多路输出基准电压第44页
    4.4 本章小结第44-45页
第五章 总结与展望第45-46页
    5.1 总结第45页
    5.2 展望第45-46页
参考文献第46-48页
发表论文和参加科研情况说明第48-49页
致谢第49-50页

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