| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·MEMS微细加工技术的概述 | 第7-10页 |
| ·硅微通道结构的介绍 | 第10-13页 |
| ·硅微通道结构在微通道板中的应用 | 第13-15页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 硅微通道结构和二氧化硅薄膜的制备原理 | 第16-24页 |
| ·光电化学刻蚀法制备硅微通道 | 第16-19页 |
| ·二氧化硅薄膜的制备原理 | 第19-24页 |
| 第三章 硅微通道结构氧化实验研究 | 第24-33页 |
| ·硅微通道氧化原理介绍 | 第24-25页 |
| ·硅微通道氧化实验设计 | 第25-27页 |
| ·硅微通道氧化实验结果及分析 | 第27-33页 |
| 第四章 硅微通道结构热应力的有限元分析 | 第33-47页 |
| ·MEMS的计算机辅助设计方法概述 | 第33-35页 |
| ·硅微通道结构热应力问题的理论分析 | 第35-37页 |
| ·使用ANSYS模拟分析硅微通道结构的热应力 | 第37-40页 |
| ·ANSYS有限元分析的结果及讨论 | 第40-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |