| 第一章 ZnO材料综述 | 第1-15页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·ZnO材料的基本性质和研究进展 | 第8-11页 |
| ·ZnO材料的基本性质 | 第8-9页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第9页 |
| ·ZnO薄膜的研究进展 | 第9-10页 |
| ·尚需解决的问题及研究方向 | 第10-11页 |
| ·ZnO基紫外探测器 | 第11-13页 |
| ·紫外探测的意义 | 第11页 |
| ·紫外探测器的原理 | 第11-12页 |
| ·ZnO基紫外探测器研究进展 | 第12-13页 |
| ·本课题的研究内容和意义 | 第13-15页 |
| 第二章 PLD法制备ZnO薄膜及其紫外探测特性研究 | 第15-32页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·光电导原理及基本公式 | 第16-19页 |
| ·脉冲激光蒸发设备的原理和结构 | 第19-22页 |
| ·实验样品的制备与测量 | 第22页 |
| ·ZnO薄膜的X射线衍射谱 | 第22-23页 |
| ·ZnO薄膜的透射和吸收光谱 | 第23-24页 |
| ·I-V特性 | 第24-25页 |
| ·ZnO薄膜的光响应特性 | 第25-29页 |
| ·ZnO薄膜的暗电导瞬态特性 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-32页 |
| 第三章 锌膜氧化法制备ZnO薄膜及其紫外探测特性研究 | 第32-44页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·电子束蒸发设备的原理和结构 | 第32-35页 |
| ·实验样品的制备 | 第35-36页 |
| ·ZnO薄膜的形貌特征 | 第36-40页 |
| ·I-V特性 | 第40-41页 |
| ·ZnO薄膜的光响应特性 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 全文总结 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-54页 |
| 发表或待发表的文章 | 第54-55页 |
| 会议交流的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |