首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--印刷电路论文

一种酸性蚀刻液可循环再生工艺的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
1 绪论第10-28页
   ·清洁生产第10-14页
     ·清洁生产的概念及内容第10-11页
     ·PCB行业的发展现状及清洁生产第11-14页
   ·蚀刻液的概况和治理现状第14-19页
     ·蚀刻液的种类第14-16页
     ·蚀刻液的技术指标第16-17页
     ·蚀刻液的治理现状第17-19页
   ·酸性氯化铜蚀刻液的循环再生理论分析第19-26页
     ·酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻与再生机理第19-20页
     ·酸性氯化铜蚀刻液循环再生的技术路线第20-21页
     ·双氧水及其稳定剂的应用第21-23页
     ·金属电沉积的理论及应用第23-26页
   ·本研究的目的和现实意义第26-28页
2 研究方法与设备材料第28-35页
   ·研究内容与方法第28-29页
   ·实验药品及材料第29-30页
     ·实验药品(分析纯)第29-30页
     ·实验设备第30页
     ·实验材料第30页
   ·实验的分析检测方法第30-35页
     ·被蚀刻样品的前处理方法(参考工业方法)第30-31页
     ·蚀刻速率的测定方法第31-32页
     ·铜离子的测定方法(EDTA法)第32页
     ·氯离子的测定方法第32页
     ·酸度的测定方法第32页
     ·蚀刻容量分析方法第32-33页
     ·阴极电流效率计算方法第33页
     ·铜分离效率的计算方法第33页
     ·双氧水的浓度分析方法第33-35页
3 实验结果与分析第35-60页
   ·蚀刻液的影响因素研究第35-41页
     ·铜离子浓度的对蚀刻速率的影响第35-36页
     ·氯离子浓度对蚀刻速率的影响第36-38页
     ·温度对蚀刻速率的影响第38页
     ·不同氯化物对蚀刻速率的影响第38-39页
     ·一价铜离子对蚀刻速率的影响第39-41页
   ·酸性蚀刻液的再生第41-45页
     ·酸性蚀刻液再生的理论计算第41-42页
     ·酸性蚀刻液再生的工艺控制第42-45页
   ·离子膜电沉积分离铜的工艺条件选择第45-55页
     ·离子膜-电沉积分离铜实验装置的确定第45-46页
     ·离子膜-电沉积与无膜电沉积的差异比较第46-47页
     ·槽电压对电流效率和铜的形态的影响第47-49页
     ·铜离子浓度对电流效率的影响第49-50页
     ·温度对电流效率和铜的形态的影响第50-51页
     ·阴极室搅拌对电流效率的影响第51-52页
     ·离子膜-电沉积电流效率主导因素正交实验第52-53页
     ·电解时间对电流效率和铜分离效率的影响第53-55页
   ·铜分离后处理液的回用第55-56页
   ·酸性氯化铜蚀刻液循环再生工艺的综合评价第56-60页
     ·技术指标第56页
     ·经济指标第56-57页
     ·生命周期评价(LCA)第57-60页
4 结论与建议第60-62页
   ·结论第60页
   ·本研究的创新点第60-61页
   ·展望与建议第61-62页
参考文献第62-68页
附录:攻读硕士学位期间发表的主要学术论文第68-70页
致谢第70页

论文共70页,点击 下载论文
上一篇:移动自组网MAC协议性能的研究与优化
下一篇:旅行社市场营销道德研究