基于知识的集成电路光刻工艺设计系统研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·集成电路光刻工艺及其特点 | 第11-13页 |
| ·知识工程研究现状 | 第13-14页 |
| ·本文研究意义及主要内容 | 第14-16页 |
| ·研究意义 | 第14-15页 |
| ·主要内容及章节安排 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 第二章 基于知识集成电路光刻工艺设计系统体系框架 | 第17-34页 |
| ·集成电路光刻工艺设计分析综述 | 第17-19页 |
| ·集成电路光刻工艺设计的模式 | 第17-18页 |
| ·集成电路光刻工艺设计系统的需求分析 | 第18-19页 |
| ·基于知识的集成电路光刻工艺设计策略及方法 | 第19-21页 |
| ·集成电路光刻工艺设计任务的分解 | 第21-23页 |
| ·设计任务分解的原则 | 第21页 |
| ·工艺设计流程 | 第21-23页 |
| ·基于实例知识分类表达与知识库设计 | 第23-33页 |
| ·光刻工艺知识的分类 | 第23-25页 |
| ·光刻工艺知识的表达 | 第25-30页 |
| ·光刻工艺知识的获取 | 第30-31页 |
| ·光刻工艺知识索引和检索技术 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 光刻工艺实例知识设计需求相似度分析 | 第34-49页 |
| ·相似度算法研究现状 | 第34-37页 |
| ·基于光刻工艺设计需求的相似度算法 | 第37-39页 |
| ·光刻工艺知识特征相似度算法 | 第39-44页 |
| ·模糊型特征转化SM 算法（FCSM） | 第39-40页 |
| ·构建隶属度函数SM 算法（MFSM） | 第40-42页 |
| ·修正隶属度函数SM 算法（AFSM） | 第42-44页 |
| ·光刻工艺设计实例分析 | 第44-48页 |
| ·基于MFSM 算法光刻工艺实例相似度计算 | 第45-47页 |
| ·基于AFSM 算法光刻工艺实例相似度计算 | 第47页 |
| ·算法可行性分析 | 第47-48页 |
| ·本章小节 | 第48-49页 |
| 第四章 基于知识的面向光刻的工艺设计 | 第49-59页 |
| ·基于知识的工艺设计方法综述 | 第49-50页 |
| ·基于知识的集成电路光刻工艺设计方法 | 第50-56页 |
| ·光刻工序排序阶段 | 第50-52页 |
| ·光刻设备选择阶段 | 第52-53页 |
| ·光刻工艺参数的选取 | 第53-56页 |
| ·工艺设计评价 | 第56-57页 |
| ·光刻设计工艺实例修正 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 基于知识的集成电路光刻工艺设计系统 | 第59-79页 |
| ·基于知识的集成电路光刻工艺设计系统框架 | 第59-60页 |
| ·光刻工艺设计系统框架内容 | 第60-62页 |
| ·数据知识库内容及设计 | 第60页 |
| ·系统开发工具和环境 | 第60-62页 |
| ·系统运行流程 | 第62页 |
| ·系统功能模块开发 | 第62-67页 |
| ·光刻工艺设计系统实例 | 第67-78页 |
| ·光刻工艺设计特征输入 | 第67-69页 |
| ·光刻工艺特征相似度匹配 | 第69-75页 |
| ·光刻工艺流程、设备及光刻参数的确定 | 第75-77页 |
| ·光刻设计评价 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 总结与展望 | 第79-81页 |
| ·全文总结 | 第79页 |
| ·今后工作展望 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第85页 |
