摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-19页 |
·自旋电子学的概述 | 第8-9页 |
·ZnO 基稀磁半导体 | 第9-14页 |
·ZnO 的基本性质 | 第9页 |
·ZnO 基稀磁半导体的研究进展 | 第9-14页 |
·磁性的电场调制 | 第14-16页 |
·PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3 铁电体简介 | 第16-18页 |
·本论文的选题依据与主要内容 | 第18-19页 |
第2章 Zn_(0.98)Co_(0.02)O/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3异质结的制备方法与表征手段 | 第19-28页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)O/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3 异质结的制备方法 | 第19-22页 |
·脉冲激光沉积方法的原理 | 第19-21页 |
·PLD-5000 系统 | 第21-22页 |
·异质结的表征手段 | 第22-28页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第22-23页 |
·磁力显微镜(MFM) | 第23-24页 |
·压电力显微镜(PFM) | 第24-25页 |
·导电原子力显微镜(C-AFM) | 第25页 |
·X 射线精细吸收(XAFS) | 第25-26页 |
·超导量子干涉仪(SQUID) | 第26页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第27-28页 |
第3章 Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的制备与铁磁性能的研究 | 第28-36页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的制备 | 第28-29页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的实验结果与讨论 | 第29-34页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的实验表征 | 第29页 |
·晶体结构测试与结果 | 第29-30页 |
·磁性测试与结果 | 第30-32页 |
·Co 的K 边精细结构的测试与结果 | 第32-34页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜铁磁性起源研究 | 第34页 |
·本章小结 | 第34-36页 |
第4章 Zn_(0.97)Al_(0.03)O 缓冲层对Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜磁性能的影响研 | 第36-42页 |
·Zn_(0.97)Al_(0.03)O 缓冲层和Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的制 | 第36-37页 |
·Zn_(0.97)Al_(0.03)O 缓冲层和Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜实验结果与讨 | 第37-40页 |
·Zn_(0.97)Al_(0.03)O 缓冲层和Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜测试手段与设 | 第37页 |
·Zn_(0.97)Al_(0.03)O 缓冲层的导电性测试与结果 | 第37-38页 |
·Zn_(0.97)Al_(0.03)O 缓冲层的磁畴测试与结果 | 第38页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的磁畴测试与结果 | 第38-39页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的磁性测试与结果 | 第39-40页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0 薄膜的磁性研究 | 第40页 |
·本章小结 | 第40-42页 |
第5章 Zn_(0.98)Co_(0.02)0/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)0_3异质结的性能研究 | 第42-50页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)0_3 异质结的制备 | 第42-43页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)0_3 异质结实验结果与讨论 | 第43-48页 |
·Zn_(0.98)Co_(0.02)0/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)0_3异质结的实验表征与设备 | 第43页 |
·晶体结构测试与结果 | 第43-44页 |
·形貌测试与结果 | 第44页 |
·铁电性测试与结果 | 第44-45页 |
·磁畴测试与结果 | 第45-46页 |
·电畴的测试与结果 | 第46-47页 |
·电场调制Zn_(0.98)Co_(0.02)0/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)0_3 的磁性测试与结果 | 第47-48页 |
·电场调制Zn_(0.98)Co_(0.02)0/PbZr_(0.52)Ti_(0.48)0_3 的磁性的研究 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
总结与展望 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
攻读硕士学位期间的论文发表情况 | 第58页 |