| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-19页 |
| §1.1 微光学的形成及发展状况 | 第8-9页 |
| §1.2 微光学元件的制作方法 | 第9-15页 |
| §1.2.1 二元套刻方法 | 第9-10页 |
| §1.2.2 直写法 | 第10-11页 |
| §1.2.2.1 激光直写法 | 第10-11页 |
| §1.2.2.2 电子束直写法 | 第11页 |
| §1.2.3 移动掩模方法 | 第11-12页 |
| §1.2.4 热熔法 | 第12-13页 |
| §1.2.5 灰阶掩模方法 | 第13-15页 |
| §1.3 数字灰度光刻技术 | 第15页 |
| §1.4 本论文的目的、意义和主要内容 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章 DMD数字微镜装置及DLP技术 | 第19-39页 |
| §2.1 引言 | 第19页 |
| §2.2 空间光调制器(SLM) | 第19-23页 |
| §2.2.1 空间光调制器的基本结构与分类 | 第19-21页 |
| §2.2.2 空间光调制器的基本性能参数 | 第21-23页 |
| §2.3 液晶光阀 | 第23-24页 |
| §2.4 泡克尔斯读出光调制器 | 第24-25页 |
| §2.5 表面性变空间光调制器 | 第25-26页 |
| §2.6 其他类型的空间光调制器 | 第26-27页 |
| §2.6.1 声光空间光调制器 | 第26页 |
| §2.6.2 磁光空间光调制器 | 第26-27页 |
| §2.7 数字微反射镜装置 | 第27-32页 |
| §2.7.1 DMD的基本结构 | 第28-29页 |
| §2.7.2 DMD的工作原理 | 第29-30页 |
| §2.7.3 DMD的特点 | 第30-32页 |
| §2.7.4 DMD与液晶显示屏的性能对比 | 第32页 |
| §2.8 数字光学处理(DLP)技术 | 第32-36页 |
| §2.8.1 DLP实现灰度量化 | 第32-34页 |
| §2.8.2 DLP投影仪工作原理 | 第34-35页 |
| §2.8.3 DMD的性能及发展方向 | 第35-36页 |
| §2.9 小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 数字灰度光刻成像模型 | 第39-53页 |
| §3.1 引言 | 第39页 |
| §3.2 数字灰度光刻成像原理及装置 | 第39-43页 |
| §3.2 1 基于SLM的缩小投影成像装置 | 第40-41页 |
| §3.2 2 基于SLM和MEMS技术相结合的投影成像装置 | 第41-43页 |
| §3.3 DMD部分相干成像系统模型 | 第43-44页 |
| §3.4 DMD单个微镜成像 | 第44-49页 |
| §3.5 DMD阵列的成像 | 第49-51页 |
| §3.6 小结 | 第51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 数字光刻扫描方式设计与分析 | 第53-78页 |
| §4.1 引言 | 第53页 |
| §4.2 DMD灰度光刻成像 | 第53-57页 |
| §4.2.1 DMD灰度光刻成像原理 | 第53-54页 |
| §4.2.2 数字光刻制作微光学元件方法 | 第54-57页 |
| §4.3 相邻象素间间隙的影响 | 第57-73页 |
| §4.3.1 二维精密工作台简介 | 第57-58页 |
| §4.3.2 系统扫描方式设计 | 第58-59页 |
| §4.3.3 实验装置(系统)工作原理 | 第59-60页 |
| §4.3.4 模拟结果及分析 | 第60-63页 |
| §4.3.5 扫描行间距对曝光质量的影响 | 第63-65页 |
| §4.3.6 扫描速度对曝光质量的影响 | 第65-67页 |
| §4.3.7 DMD帧频对曝光质量的影响 | 第67-68页 |
| §4.3.8 扫描速度、扫描行间距以及DMD的帧频对曝光质量的共同作用结果 | 第68-73页 |
| §4.3.9 系统运行效率评价 | 第73页 |
| §4.4 曝光显影的非线性影响 | 第73-76页 |
| §4.5 小结 | 第76页 |
| 参考文献 | 第76-78页 |
| 第五章 总结 | 第78-80页 |
| 附录一：攻硕期间发表的文章 | 第80-81页 |
| 附录二：参加的科研项目和获得的奖励 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |