| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-18页 |
| 1．1 选题的背景及意义 | 第7-8页 |
| 1．2 国内外研究现状及分析 | 第8-18页 |
| 1．2．1 抛光垫种类及其性能 | 第9-11页 |
| 1．2．2 抛光垫的机械物理性能对抛光效率和工件表面质量的影响 | 第11-13页 |
| 1．2．3 抛光垫的表面粗糙度和结构对抛光效率和工件表面质量的影响 | 第13-15页 |
| 1．2．4 抛光垫的修整 | 第15-16页 |
| 1．2．5 总结 | 第16-18页 |
| 2 抛光垫特性参数的检测与评价 | 第18-32页 |
| 2．1 抛光垫的微观组织结构的观察与评价 | 第18-23页 |
| 2．2 抛光垫表面粗糙度的检测 | 第23-25页 |
| 2．3 抛光垫表面沟槽尺寸的检测 | 第25-26页 |
| 2．4 抛光垫孔隙率的检测 | 第26-27页 |
| 2．5 抛光垫厚度和密度的检测 | 第27-28页 |
| 2．6 抛光垫硬度的检测 | 第28页 |
| 2．7 抛光垫压缩比和回弹率的检测与评价 | 第28-29页 |
| 2．8 抛光垫吸收抛光液的能力(承载抛光液的能力)的检测与评价 | 第29-30页 |
| 2．9 抛光垫的拉伸强度、剪切强度 | 第30-32页 |
| 3 抛光垫特性对抛光效果的影响 | 第32-60页 |
| 3．1 实验工艺参数的选择 | 第33-36页 |
| 3．1．1 优化工艺参数实验 | 第33页 |
| 3．1．2 实验结果分析 | 第33-36页 |
| 3．2 抛光工艺参数对去除率和硅片表面粗糙度的影响 | 第36-42页 |
| 3．2．1 实验条件 | 第36页 |
| 3．2．2 结果与讨论 | 第36-42页 |
| 3．3 抛光垫的特性对对抛光效果的影响 | 第42-59页 |
| 3．3．1 抛光垫的压缩比对抛光效果的影响 | 第42-46页 |
| 3．3．2 抛光垫表面粗糙度对抛光效果的影响 | 第46-53页 |
| 3．3．3 抛光垫的回弹率对抛光效果的影响 | 第53页 |
| 3．3．4 抛光垫的孔隙率对抛光效果的影响 | 第53-59页 |
| 3．4 小结 | 第59-60页 |
| 4 抛光垫修整对抛光垫特性的影响研究 | 第60-66页 |
| 4．1 修整参数对抛光垫表面粗糙度的影响 | 第60-64页 |
| 4．1．1 无沟槽聚氨醋抛光垫 | 第60-62页 |
| 4．1．2 沟槽抛光垫 | 第62-63页 |
| 4．1．3 无纺布抛光垫 | 第63-64页 |
| 4．2 修整参数对抛光垫回弹率的影响 | 第64-65页 |
| 4．3 小结 | 第65-66页 |
| 5 结论与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 附录A 抛光垫特性指标的测量结果 | 第71-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第75页 |
