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基于广义傅里叶级数的平面MOSFET漏/源电阻半解析模型

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-19页
    1.1 MOSFET简介第10-11页
    1.2 MOSFET漏/源电阻的研究意义第11-12页
    1.3 国内外研究现状第12-17页
    1.4 本文主要内容第17-19页
第2章 MOSFET漏/源电阻的求解方法第19-26页
    2.1 数值计算法第19-21页
    2.2 解析计算法第21-24页
    2.3 半解析计算法第24-25页
    2.4 本章小结第25-26页
第3章 基于半解析法的浅结MOSFET漏/源电阻建模第26-42页
    3.1 浅结MOSFET漏/源电阻二维半解析模型第26-27页
    3.2 Ⅱ区半解析模型的建立第27-33页
        3.2.1 边值问题建立第27-31页
        3.2.2 求解Φ(ξ)的线性方程的建立第31-32页
        3.2.3 线性方程的求解第32-33页
    3.3 Ⅲ区半解析模型的建立第33-39页
        3.3.1 边值问题建立第33-36页
        3.3.2 求解破Φ_1(ξ),Φ_2(ξ)的线性方程组的建立第36-37页
        3.3.3 线性方程组的求解第37-39页
    3.4 求解MOSFET漏区电阻值第39-41页
        3.4.1 Ⅰ区集总电阻的求解第39-40页
        3.4.2 Ⅱ区电阻值的求解第40页
        3.4.3 Ⅲ区电阻值的求解第40-41页
    3.5 本章小结第41-42页
第4章 浅结MOSFET漏/源区二维电势分布和电阻的验证与分析第42-57页
    4.1 浅结MOSFET漏/源区二维电势分布的验证第42-45页
        4.1.1 Ⅱ区电势分布图对比第42-44页
        4.1.2 Ⅲ区电势分布图对比第44-45页
    4.2 ATLAS器件仿真流程简介第45页
    4.3 浅结MOSFET漏/源电阻的验证与分析第45-52页
    4.4 硅化物对浅结MOSFET漏/源电阻的影响第52-55页
    4.5 本章小结第55-57页
第5章 总结与展望第57-59页
    5.1 总结第57页
    5.2 展望第57-59页
参考文献第59-63页
致谢第63-64页
攻读硕士期间发表的论文第64页
参与的科研项目第64页

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