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异质栅器件的短沟道效应研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-7页
第一章 绪论第7-13页
   ·研究背景第7-9页
   ·异质栅器件的国内外研究进展第9-11页
   ·主要内容第11-13页
第二章 器件结构与物理模型的建立第13-27页
   ·器件结构的建立与结构参数的选取第13-14页
     ·器件结构的建立第13-14页
     ·结构参数的选取第14页
   ·基于ISE-TCAD 物理模型的选取第14-25页
     ·ISE-TCAD 软件简介第14-19页
     ·物理模型选取第19-25页
   ·本章小结第25-27页
第三章 异质栅器件的输出特性分析第27-37页
   ·载流子过冲效应第27-30页
     ·载流子速度过冲效应理论基础第27-28页
     ·HMGFET 中的载流子速度过冲研究第28-30页
   ·异质栅(HMGFET)的输出特性曲线第30-34页
     ·MOS 器件输出特性曲线简介第30-31页
     ·异质栅器件(HMGFET)的输出特性曲线第31-34页
   ·本章小结第34-37页
第四章 三异质栅器件的短沟道效应研究第37-49页
   ·三异质栅器件的阈值电压特性第37-40页
     ·短沟道器件的阈值电压模型第37-39页
     ·三异质栅器件的阈值漂移特性第39-40页
   ·漏致势垒降低(DIBL)效应第40-44页
     ·漏致势垒降低效应简介第40-42页
     ·漏致势垒降低(DIBL)效应理论分析第42-43页
     ·三异质栅器件的漏致势垒降低(DIBL)特性分析第43-44页
   ·三异质栅器件的亚阈值性能分析第44-48页
     ·亚阈值斜率第44-45页
     ·三异质栅器件的亚阈值斜率第45-48页
   ·本章小结第48-49页
第五章 总结第49-51页
致谢第51-53页
参考文献第53-57页

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