热丝化学气相沉积制备微晶硅薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-13页 |
| 1 微晶硅薄膜材料 | 第13-16页 |
| ·材料特性 | 第13页 |
| ·应用领域 | 第13-14页 |
| ·制备方法 | 第14-16页 |
| 2 热丝化学气相沉积技术 | 第16-20页 |
| ·方法简介 | 第16页 |
| ·工作原理 | 第16-17页 |
| ·沉积设备 | 第17-20页 |
| 3 检测分析方法介绍 | 第20-24页 |
| ·X射线衍射谱 | 第20页 |
| ·透射光谱 | 第20-21页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| ·霍尔效应测量 | 第22页 |
| ·伏安特性测量 | 第22页 |
| ·阻抗谱 | 第22-24页 |
| 4 沉积气压对微晶硅薄膜光学带隙的影响 | 第24-33页 |
| ·实验步骤 | 第24页 |
| ·测试结果 | 第24-28页 |
| ·数据分析 | 第28-31页 |
| ·结果讨论 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 5 晶化条件对微晶硅薄膜晶粒尺寸的影响 | 第33-36页 |
| ·实验步骤 | 第33页 |
| ·测试结果 | 第33-34页 |
| ·数据分析 | 第34-35页 |
| ·结果讨论 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 6 硼掺杂浓度对微晶硅薄膜电学特性的影响 | 第36-40页 |
| ·实验步骤 | 第36页 |
| ·测试结果 | 第36-38页 |
| ·结果讨论 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 7 HIT结构本征层作用研究 | 第40-49页 |
| ·实验步骤 | 第41-42页 |
| ·测试结果 | 第42-44页 |
| ·数据分析 | 第44-47页 |
| ·结果讨论 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
