| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-19页 |
| ·GaN外延衬底 | 第9-12页 |
| ·Si衬底上的GaN外延及器件研究进展 | 第12-14页 |
| ·SOI基GaN外延技术及进展 | 第14-16页 |
| ·Si基微机械加工技术 | 第16-17页 |
| ·本论文的安排 | 第17-19页 |
| 第二章 SOI衬底对GaN材料热应力的影响 | 第19-27页 |
| ·弹性热力学简介 | 第19-20页 |
| ·GaN/SOI与GaN/Si结构的热应力模拟结果比较 | 第20-23页 |
| ·SOI各层厚度变化对GaN热应力的影响 | 第23-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 悬空硅膜上的GaN外延生长 | 第27-38页 |
| ·GaN/悬空硅膜结构的热应力模拟 | 第27-28页 |
| ·悬空硅膜结构的制备 | 第28-32页 |
| ·GaN在悬空硅膜衬底上的外延生长 | 第32-37页 |
| ·生长条件 | 第32-33页 |
| ·实验结果和讨论 | 第33-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 硅悬臂梁上的GaN外延生长 | 第38-50页 |
| ·GaN/硅悬臂梁结构热应力模拟 | 第38-39页 |
| ·表面/体微机械加工技术制备硅悬臂梁 | 第39-45页 |
| ·基本工艺流程 | 第39-40页 |
| ·整平腐蚀研究 | 第40-41页 |
| ·悬臂梁的释放过程研究 | 第41-43页 |
| ·硅悬臂梁制备的工艺流程 | 第43-45页 |
| ·GaN在硅悬臂梁上的外延生长 | 第45-49页 |
| ·生长条件 | 第45页 |
| ·实验结果和讨论 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 图形化SOI衬底上的GaN侧向生长研究 | 第50-63页 |
| ·侧向外延生长技术(ELOG)简介 | 第50-54页 |
| ·ELOG降低位错密度机理 | 第50-52页 |
| ·ELOG生长GaN的影响因素和侧面演变机制 | 第52-54页 |
| ·图形化SOI衬底的设计和制备 | 第54-55页 |
| ·GaN在图形化SOI衬底上的侧向外延生长 | 第55-62页 |
| ·生长条件和生长过程 | 第56-57页 |
| ·实验结果和讨论 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 作者简历 | 第75-76页 |