基于PLC的第三代MOCVD控制系统研究与设计
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-13页 |
| ·GaN 材料及生长技术 | 第7-8页 |
| ·MOCVD技术特点 | 第8-9页 |
| ·MOCVD系统原理 | 第9-10页 |
| ·MOCVD设备发展现状 | 第10页 |
| ·本文的主要工作 | 第10-13页 |
| 第二章 控制系统研究 | 第13-21页 |
| ·DCS与FCS | 第13-15页 |
| ·PLC可编程控制系统 | 第15-18页 |
| ·MOCVD工艺流程与控制系统特点 | 第18-20页 |
| ·MOCVD控制系统方案选型 | 第20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 MOCVD控制系统硬件结构设计 | 第21-33页 |
| ·MOCVD控制系统结构 | 第21-24页 |
| ·PLC资源配置和组态设计 | 第24-27页 |
| ·PLC输入输出模块设计 | 第27-29页 |
| ·控制柜设计和布局布线 | 第29-30页 |
| ·系统抗干扰分析 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第四章 MOCVD控制系统下位机软件设计 | 第33-47页 |
| ·S7-300 及STEP7 简介 | 第33页 |
| ·OB1 主控程序设计 | 第33-35页 |
| ·步序循环控制 | 第35-38页 |
| ·模拟量输入控制 | 第38页 |
| ·模拟量渐变和输出控制 | 第38-41页 |
| ·数字量输出控制 | 第41-42页 |
| ·报警处理程序 | 第42-43页 |
| ·S7-200 反应室控制程序设计 | 第43-45页 |
| ·S7-300 程序下载及加密 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 MOCVD监控界面系统设计 | 第47-55页 |
| ·WinCC 监控组态软件简介 | 第47页 |
| ·WinCC 与 S7-300 的通讯 | 第47-49页 |
| ·MOCVD监控系统功能 | 第49页 |
| ·MOCVD监控界面设计实现 | 第49-52页 |
| ·Excel 材料生长工艺编写 | 第52页 |
| ·MOCVD监控系统运行 | 第52-53页 |
| ·OP77B组态画面设计 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 研究成果 | 第61-62页 |
