基于PLC的MOCVD控制系统的优化设计
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·GaN(氮化镓)简介 | 第9页 |
| ·氮化镓材料的制备 | 第9-10页 |
| ·MOCVD系统 | 第10-12页 |
| ·主要工作和论文安排 | 第12-15页 |
| ·主要工作 | 第12页 |
| ·本文章节安排 | 第12-15页 |
| 第二章 MOCVD控制系统方案 | 第15-27页 |
| ·工业控制自动化的现状简介 | 第15-19页 |
| ·工业PC的发展 | 第15-16页 |
| ·PLC的发展 | 第16-17页 |
| ·DCS系统 | 第17页 |
| ·现场总线（FCS） | 第17-18页 |
| ·现代计算机控制系统 | 第18-19页 |
| ·MOCVD控制系统的方案 | 第19-20页 |
| ·S7-300/400PLC 简介 | 第20-24页 |
| ·可编程控制器简介 | 第20-21页 |
| ·可编程控制器的工作原理 | 第21-22页 |
| ·可编程控制器的应用 | 第22页 |
| ·可编程控制器的特点 | 第22-23页 |
| ·编程软件简介 | 第23页 |
| ·STEP7 使用方法 | 第23-24页 |
| ·上位机界面编程软件WinCC 5.0 简介 | 第24-26页 |
| ·WinCC简介 | 第24-25页 |
| ·WinCC性能特点 | 第25-26页 |
| ·WinCC的各个功能子系统简介 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 MOCVD控制系统设备选型与设计实现 | 第27-35页 |
| ·MOCVD控制系统总体结构 | 第27-28页 |
| ·MOCVD控制系统的设备选型 | 第28-31页 |
| ·上位机选型 | 第28页 |
| ·下位机选型 | 第28-31页 |
| ·控制柜设计 | 第31-32页 |
| ·气路的控制 | 第32-33页 |
| ·电磁阀的控制 | 第32页 |
| ·电机的控制 | 第32页 |
| ·压力、流量控制 | 第32-33页 |
| ·反应室温度控制设计 | 第33页 |
| ·系统保护措施 | 第33-34页 |
| ·系统的干扰分析 | 第33页 |
| ·系统的抗干扰措施 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 MOCVD控制系统下位机设计及优化 | 第35-51页 |
| ·下位机主控程序的总体设计 | 第35-37页 |
| ·步序控制的实现 | 第37-38页 |
| ·循环控制的实现 | 第38-40页 |
| ·循环控制方案 | 第38-39页 |
| ·上位机循环控制程序 | 第39-40页 |
| ·下位机循环控制程序 | 第40页 |
| ·模拟量的多路分时选择输入 | 第40-42页 |
| ·方案设计 | 第41页 |
| ·控制程序的编写 | 第41-42页 |
| ·采入时间的控制 | 第42页 |
| ·模拟量的平滑处理及实现 | 第42-47页 |
| ·模拟量平滑处理方案 | 第43页 |
| ·RAMP功能模块的设计 | 第43-44页 |
| ·爬升控制程序的实现 | 第44-46页 |
| ·模拟量的输出控制 | 第46-47页 |
| ·数字量的输出 | 第47页 |
| ·报警及故障处理 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 MOCVD控制系统上位机监控系统设计 | 第51-61页 |
| ·上位机监控系统功能 | 第51-52页 |
| ·主监控界面 | 第52-53页 |
| ·数据记录图及趋势图界面 | 第53-54页 |
| ·报警界面 | 第54-55页 |
| ·通讯设置 | 第55页 |
| ·工艺编写工具 | 第55-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 研究成果 | 第67-68页 |
