| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第11页 |
| 1.2 氧传感器概述 | 第11-19页 |
| 1.2.1 浓差电势型氧传感器 | 第12-13页 |
| 1.2.2 极限电流型氧传感器 | 第13-17页 |
| 1.2.3 伽伐尼式原电池氧传感器 | 第17页 |
| 1.2.4 光化学氧传感器 | 第17-19页 |
| 1.2.5 光纤氧传感器 | 第19页 |
| 1.3 固体离子-电子混合导体材料 | 第19-24页 |
| 1.3.1 钙钛矿型混合导体 | 第20-23页 |
| 1.3.2 双相复合型混合导体 | 第23-24页 |
| 1.4 致密扩散障碍层极限电流型氧传感器的制备方法 | 第24-25页 |
| 1.5 激光熔覆的原理及特点 | 第25-26页 |
| 1.6 本研究的内容、目的与意义 | 第26-27页 |
| 第2章 实验材料及其制备过程 | 第27-35页 |
| 2.1 实验试剂及设备 | 第27-28页 |
| 2.2 制备混合导体La_(0.8)Sr_(0.2)Ga_(1-x)Fe_xO_(3-δ) | 第28-30页 |
| 2.2.1 流程图 | 第28页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第28-30页 |
| 2.3 制备固体电解质La_(0.8)Sr_(0.2)Ga_(0.8)Mg_(0.2)O_(2.815) | 第30页 |
| 2.4 制备的基体与熔覆层材料检测结果 | 第30-32页 |
| 2.4.1 XRD分析 | 第30-31页 |
| 2.4.2 相容性分析结果 | 第31-32页 |
| 2.5 固体电解质5YSZ的烧结 | 第32-33页 |
| 2.6 激光熔覆样品的制作 | 第33-35页 |
| 2.6.1 固体电解质基体的固定 | 第33页 |
| 2.6.2 熔覆层的预置 | 第33-35页 |
| 第3章 致密扩散障碍层的激光熔覆制备及工艺参数研究 | 第35-43页 |
| 3.1 激光熔覆设备 | 第35-36页 |
| 3.2 激光熔覆试验过程 | 第36页 |
| 3.3 激光熔覆参数对熔覆层宏观几何尺寸的影响 | 第36-42页 |
| 3.3.1 实验材料和方法 | 第36-37页 |
| 3.3.2 激光功率的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.3 扫描速度的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.4 光斑直径的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.5 实验结果与讨论 | 第41-42页 |
| 3.4 激光熔覆工艺的选取 | 第42-43页 |
| 第4章 激光熔覆样品的显微结构分析 | 第43-51页 |
| 4.1 激光熔覆对熔覆层致密度的影响 | 第43页 |
| 4.2 熔覆层截面扫描电镜微观形貌与成分分析 | 第43-51页 |
| 第5章 氧传感器的制备、测试及结论 | 第51-67页 |
| 5.1 氧传感器测试平台 | 第51-59页 |
| 5.1.1 毛细管流量计的原理 | 第51-53页 |
| 5.1.2 气体流量的标定 | 第53-56页 |
| 5.1.3 气体流量的检验 | 第56页 |
| 5.1.4 测试仪器 | 第56-57页 |
| 5.1.5 Autolab电化学工作站 | 第57-58页 |
| 5.1.6 电路连接及测试参数 | 第58-59页 |
| 5.2 氧传感器的制备 | 第59-62页 |
| 5.2.1 共压共烧结法制备氧传感器 | 第59-60页 |
| 5.2.2 瓷片复合法制备氧传感器 | 第60页 |
| 5.2.3 致密扩散障碍层极限电流型氧传感器Ⅰ-Ⅴ特性曲线 | 第60-61页 |
| 5.2.4 氧传感器工作温度的选取 | 第61页 |
| 5.2.5 氧含量对氧传感器极限电流的影响 | 第61-62页 |
| 5.3 瓷片复合制备的氧传感器测试结果及分析 | 第62-64页 |
| 5.3.1 传感器工作温度的选取 | 第62-63页 |
| 5.3.2 氧含量对氧传感器极限电流的影响 | 第63-64页 |
| 5.4 共压共烧制备的氧传感器测试结果及分析 | 第64-67页 |
| 第6章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
