集成电路设计中针对随机缺陷的成品率研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1 绪论	第8-12页
·集成电路发展	第8-9页
·可制造性设计	第9页
·国内外研究现况	第9-10页
·本文主要研究内容	第10-12页
2 数字集成电路物理设计流程	第12-23页
·数据准备	第13-16页
·Milkyway数据库	第14-15页
·设计文件导入	第15-16页
·布图规划和布局	第16-19页
·时钟树综合	第19-21页
·布线	第21-23页
3 成品率预测技术	第23-36页
·影响成品率的因素	第23-26页
·缺陷类型	第26页
·关键面积	第26-27页
·缺陷分布特征	第27-29页
·主流成品率预测模型	第29-33页
·Poisson模型	第31页
·Murphy模型	第31-32页
·负二项式模型	第32-33页
·改进模型	第33-36页
4 成品率提升技术	第36-44页
·关键面积分析技术	第37-39页
·成品率提升技术	第39-44页
·基于开路关键面积的成品率提升	第39-40页
·基于短路关键面积的成品率提升	第40页
·基于双过孔的成品率提升	第40-41页
·基于加权关键面积的成品率提升技术	第41-44页
5 成品率提升实现	第44-54页
·实验内容和步骤	第44-45页
·实验结果分析	第45-54页
结论	第54-55页
参考文献	第55-58页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况	第58-59页
致谢	第59-60页