| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-12页 |
| Contents | 第12-16页 |
| 图表目录 | 第16-20页 |
| 主要符号表 | 第20-22页 |
| 1 绪论 | 第22-38页 |
| ·微纳器件中的近场热辐射现象及其特点 | 第22-27页 |
| ·远场热辐射、近场热辐射及发生近场热辐射现象的条件 | 第22-24页 |
| ·微纳器件中常见的悬空薄膜结构 | 第24页 |
| ·悬空薄膜结构中的近场热辐射现象及其特点 | 第24-27页 |
| ·近场热辐射的理论研究方法及实验测试技术发展现状 | 第27-35页 |
| ·近场热辐射的理论研究方法 | 第27-28页 |
| ·近场热辐射的实验测试技术 | 第28-35页 |
| ·本文研究的内容及意义 | 第35-38页 |
| 2 平行平板间近场热辐射的机理和模型 | 第38-68页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·表面电磁波的特征及其形成条件 | 第38-41页 |
| ·微纳米尺度辐射传输的理论基础 | 第41-50页 |
| ·涨落电流的相关函数 | 第41-42页 |
| ·均匀介质系统的并矢格林函数 | 第42-47页 |
| ·半无限大平板系统的并矢格林函数 | 第47-49页 |
| ·平行的两个半无限大平板系统的并矢格林函数 | 第49-50页 |
| ·基于微纳米尺度辐射传输理论的热辐射模型 | 第50-60页 |
| ·半无限大平板的热辐射模型 | 第50-55页 |
| ·平行的两个半无限大平板间的热辐射模型 | 第55-57页 |
| ·微纳米尺度热辐射传输中表面电磁波的作用 | 第57-59页 |
| ·平行的两个半无限大平板间的近场辐射传热模型 | 第59-60页 |
| ·平行二氧化硅平板间近场辐射传热的特征和规律 | 第60-66页 |
| ·二氧化硅表面电磁波的特征 | 第60-62页 |
| ·近场辐射传热模型及近场辐射传热系数 | 第62-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 3 双微热板器件的设计和加工 | 第68-92页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·双微热板器件的加工技术、制作工艺和测温方式选择 | 第68-71页 |
| ·加工技术选择 | 第68-69页 |
| ·制作工艺选择 | 第69页 |
| ·测温方式选择 | 第69-71页 |
| ·基于标准CMOS工艺的双微热板器件设计及加工 | 第71-81页 |
| ·牺牲层材料选择 | 第71-72页 |
| ·腐蚀窗刻蚀方案设计 | 第72-73页 |
| ·双微热板器件的CMOS加工 | 第73-77页 |
| ·双微热板器件的Post-CMOS加工 | 第77-79页 |
| ·多晶硅牺牲层腐蚀结束的辅助判断结构 | 第79-80页 |
| ·对腐蚀窗刻蚀工艺的验证 | 第80-81页 |
| ·基于定制MEMS工艺的双微热板器件设计和加工 | 第81-89页 |
| ·双微热板器件的设计 | 第81-82页 |
| ·双微热板器件的加工 | 第82-88页 |
| ·介质层残余应力的控制 | 第88-89页 |
| ·本章小结 | 第89-92页 |
| 4 双微热板器件的特性参数测试 | 第92-115页 |
| ·引言 | 第92页 |
| ·基于经典传热理论建立双微热板器件的传热模型 | 第92-95页 |
| ·单个微热板的传热模型 | 第92-93页 |
| ·双微热板器件的传热模型 | 第93-94页 |
| ·微热板可承受的最大加热电流 | 第94-95页 |
| ·测试系统搭建 | 第95-98页 |
| ·用于稳态热性能测试的系统 | 第95-96页 |
| ·用于动态热性能测试的系统 | 第96-98页 |
| ·测试电流选择 | 第98页 |
| ·550纳米间距双微热板器件的特性参数测试 | 第98-108页 |
| ·芯片的封装 | 第101页 |
| ·温阻特性 | 第101-104页 |
| ·最大加热电流 | 第104页 |
| ·热延迟时间 | 第104-106页 |
| ·双层微热板间的绝热性能 | 第106-108页 |
| ·1 微米间距双微热板器件的特性参数测试 | 第108-113页 |
| ·温阻特性 | 第109页 |
| ·最大加热电流 | 第109-111页 |
| ·热延迟时间 | 第111-112页 |
| ·双层微热板间的绝热性能 | 第112-113页 |
| ·本章小结 | 第113-115页 |
| 5 双微热板间近场辐射传热的实验测量 | 第115-134页 |
| ·引言 | 第115页 |
| ·实验方案 | 第115-117页 |
| ·1微米间距 | 第115-116页 |
| ·550纳米间距 | 第116-117页 |
| ·实验过程 | 第117-125页 |
| ·1微米间距 | 第117-123页 |
| ·550纳米间距 | 第123-125页 |
| ·测量结果 | 第125-127页 |
| ·1微米间距 | 第125-127页 |
| ·550纳米间距 | 第127页 |
| ·分析 | 第127-132页 |
| ·测量结果分析 | 第127-129页 |
| ·与仿真结果比较 | 第129-131页 |
| ·与文献报导数据比较 | 第131-132页 |
| ·近场热辐射对微型器件的影响 | 第132页 |
| ·本章小结 | 第132-134页 |
| 6 结论与展望 | 第134-138页 |
| 创新点摘要 | 第138-139页 |
| 参考文献 | 第139-146页 |
| 附录A 部分等式的推导过程 | 第146-150页 |
| 攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第150-151页 |
| 致谢 | 第151-152页 |
| 作者简介 | 第152-154页 |