| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·硅基光电子学研究背景和现状 | 第9-11页 |
| ·纳米硅器件在交流偏置下的电致发光 | 第11-13页 |
| ·磷掺杂纳米硅的结构和发光性质 | 第13-15页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 参考文献 | 第17-20页 |
| 第二章 纳米硅/二氧化硅多层膜的制备及直流电致发光性质 | 第20-34页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·纳米硅/二氧化硅多层膜的制备和结构表征 | 第20-23页 |
| ·纳米硅/二氧化硅多层膜的光学性质 | 第23-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 纳米硅/二氧化硅多层膜在交流下的电致发光性质 | 第34-45页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·正弦波下纳米硅/二氧化硅多层膜的电致发光性质 | 第35-38页 |
| ·方波下纳米硅/二氧化硅多层膜的电致发光性质 | 第38-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第四章 磷掺杂硅/二氧化硅多层膜的结构和光电性质 | 第45-60页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·磷掺杂硅/二氧化硅多层膜的制备与TEM表征 | 第45-47页 |
| ·磷掺杂硅/二氧化硅多层膜的XPS研究 | 第47-51页 |
| ·磷掺杂硅/二氧化硅多层膜的电子结构 | 第51-56页 |
| ·磷掺杂硅/二氧化硅多层膜的发光性质 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-63页 |
| ·论文总结 | 第60-62页 |
| ·未来展望 | 第62-63页 |
| 硕士期间发表论文 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |