| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 抗反射微纳结构的理论研究进展 | 第10-11页 |
| 1.3 抗反射微纳结构的制备方法 | 第11-13页 |
| 1.4 抗反射微纳结构的应用 | 第13-14页 |
| 1.5 课题来源与主要研究内容 | 第14-15页 |
| 1.5.1 课题来源 | 第14页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第14-15页 |
| 1.6 本课题的创新点及意义 | 第15-16页 |
| 1.6.1 本课题的创新点 | 第15页 |
| 1.6.2 本课题的意义 | 第15-16页 |
| 2 抗反射微纳结构的理论设计 | 第16-23页 |
| 2.1 FDTD方法的概述 | 第16-18页 |
| 2.2 抗反射微纳结构的理论设计 | 第18-21页 |
| 2.3 本章小结 | 第21-23页 |
| 3 抗反射微纳结构的制备及生成机理分析 | 第23-49页 |
| 3.1 抗反射微纳结构的制备 | 第23-29页 |
| 3.1.1 材料及设备 | 第23-27页 |
| 3.1.1.1 反应离子刻蚀基本原理 | 第23-25页 |
| 3.1.1.2 反应离子刻蚀工艺条件对刻蚀效果的影响 | 第25-27页 |
| 3.1.2 实验流程 | 第27-28页 |
| 3.1.3 样品表征 | 第28页 |
| 3.1.4 实验方案 | 第28-29页 |
| 3.2 抗反射微纳结构的生成机理分析 | 第29-47页 |
| 3.2.1 气体流量比对抗反射微纳结构生成的影响 | 第29-34页 |
| 3.2.2 功率对抗反射微纳结构生成的影响 | 第34-36页 |
| 3.2.3 压强对抗反射微纳结构生成的影响 | 第36-39页 |
| 3.2.4 时间对抗反射微纳结构生成的影响 | 第39-46页 |
| 3.2.5 抗反射微纳结构的生成机理 | 第46-47页 |
| 3.3 本章小结 | 第47-49页 |
| 4 抗反射微纳结构的性能分析 | 第49-58页 |
| 4.1 气体流量比对抗反射微纳结构光学性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.2 功率对抗反射微纳结构光学性能的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 压强对抗反射微纳结构光学性能的影响 | 第51-53页 |
| 4.4 时间对抗反射微纳结构光学性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.5 抗反射微纳结构的光学性能 | 第54-56页 |
| 4.6 抗反射微纳结构的亲水性 | 第56-57页 |
| 4.7 本章小结 | 第57-58页 |
| 5 总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 总结 | 第58-59页 |
| 5.2 展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 附录 | 第67-69页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第69页 |