光刻法制备微纳流体芯片及其在检测仪器中的应用
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 微纳流控芯片系统及其发展概况 | 第11-13页 |
| 1.2 微流控系统 | 第13-19页 |
| 1.2.1 微米尺度下流体的基本特征 | 第13-14页 |
| 1.2.2 微米通道的材料及制作工艺 | 第14-18页 |
| 1.2.3 微流体芯片的优势及应用研究 | 第18-19页 |
| 1.3 纳流控系统 | 第19-23页 |
| 1.3.1 纳米尺度下流体的特殊性质 | 第19-20页 |
| 1.3.2 纳米通道的制作 | 第20-22页 |
| 1.3.3 纳流控芯片的特点及其应用 | 第22-23页 |
| 1.4 本论文主要工作 | 第23-24页 |
| 2 微米通道的制备及其在光学显微镜中的应用 | 第24-43页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 微米流道芯片制备工艺研究 | 第24-36页 |
| 2.2.1 材料选择 | 第24-26页 |
| 2.2.2 掩膜版设计 | 第26页 |
| 2.2.3 SU-8阳模的制作 | 第26-29页 |
| 2.2.4 PDMS微通道的制作 | 第29-31页 |
| 2.2.5 PDMS微流体芯片的键合 | 第31-36页 |
| 2.3 微流体芯片应用于光学显微镜系统 | 第36-42页 |
| 2.3.1 光路设计 | 第36-39页 |
| 2.3.2 表面等离子激元的激发及其共振成像 | 第39-42页 |
| 2.3.3 病毒检测 | 第42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 3 纳米腔室芯片的制备及其在超快冷冻电镜中的应用 | 第43-59页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 纳米腔室芯片制备工艺研究 | 第43-55页 |
| 3.2.1 材料选择 | 第43-44页 |
| 3.2.2 掩膜板设计 | 第44-45页 |
| 3.2.3 光刻工艺及其参数设定 | 第45-46页 |
| 3.2.4 刻蚀工艺及其参数设定 | 第46-50页 |
| 3.2.5 金属剥离工艺及其参数设定 | 第50-52页 |
| 3.2.6 键合工艺研究 | 第52-54页 |
| 3.2.7 切割工艺研究 | 第54-55页 |
| 3.3 纳米腔室芯片应用于超快冷冻电镜 | 第55-57页 |
| 3.3.1 超快冷冻电镜 | 第55-56页 |
| 3.3.2 蛋白质观察 | 第56-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 4 总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 作者简历及攻读硕士/博士学位期间取得的研究成果 | 第65-67页 |
| 学位论文数据集 | 第67页 |
