N掺杂石墨烯及其场效应晶体管研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·石墨烯的性质 | 第10-13页 |
| ·石墨烯的制备 | 第13-19页 |
| ·国内外研究现状 | 第19-24页 |
| ·石墨烯掺杂的研究现状 | 第19-22页 |
| ·石墨烯场效应晶体管及其他器件的研究现状 | 第22-24页 |
| ·问题的提出及意义，研究目的和内容 | 第24-27页 |
| 2 石墨烯的制备及表征 | 第27-45页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·石墨烯的制备及表征 | 第27-38页 |
| ·石墨烯的制备及形貌 | 第27-29页 |
| ·石墨烯的拉曼光谱 | 第29-36页 |
| ·石墨烯的元素分析 | 第36-38页 |
| ·石墨烯的场效应晶体管及其性质 | 第38-43页 |
| ·MOS 场效应晶体管原理 | 第38-39页 |
| ·石墨烯场效应晶体管的结构、原理及制备 | 第39-40页 |
| ·石墨烯场效应晶体管的性质 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 3 N 掺杂石墨烯及其场效应晶体管 | 第45-57页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·石墨烯的N 掺杂 | 第45-54页 |
| ·离子注入及快速退火 | 第45-46页 |
| ·石墨烯缺陷分析、恢复及掺杂 | 第46-52页 |
| ·N 掺杂石墨烯元素分析 | 第52-54页 |
| ·N 掺杂石墨烯场效应晶体管 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 4 还原的氧化石墨烯掺杂及其场效应晶体管 | 第57-65页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·氧化石墨烯的制备、表征及还原 | 第57-62页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第57-58页 |
| ·氧化石墨烯的表征 | 第58-60页 |
| ·氧化石墨烯的还原及离子注入 | 第60-62页 |
| ·氧化石墨烯场效应晶体管 | 第62-64页 |
| ·场效应晶体管的制备 | 第62-63页 |
| ·还原后的氧化石墨烯场效应晶体的性能及分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 5 总结、后继工作与展望 | 第65-67页 |
| ·总结 | 第65页 |
| ·后继工作与展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 附录 | 第79页 |
