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OPC的平滑矫正过程研究

摘要第1-4页
Abstract第4-5页
目录第5-6页
序言第6-16页
   ·集成电路技术产业的发展第6-9页
   ·EDA技术概述第9-15页
     ·EDA技术的发展第10-11页
     ·为可制造性而设计(DFM)第11-12页
     ·RET第12-15页
   ·本文所要完成的主要任务第15-16页
问题分析第16-26页
   ·OPC技术的主要方法第16-23页
   ·OPC技术的问题分析第23-26页
基本思路第26-36页
   ·OPC版图修正分类第26-30页
     ·光刻模型/操作规则修正第26-28页
     ·OPC前版图修正第28-29页
     ·OPC后版图修正第29-30页
   ·版图修正分析第30-31页
   ·纹波效应和影响范围分析第31-34页
   ·图形重用第34页
   ·修正过程中目前存在的问题第34-36页
算法流程第36-41页
   ·流程总图第36页
   ·多边形匹配第36-37页
   ·初始化第37-39页
     ·局部和全局模式的划分第37-38页
     ·初始化方法第38-39页
   ·矫正过程第39-41页
实验和分析第41-49页
 实验一、Recipe矫正第41-43页
 实验二、版图OPC前的修正第43-44页
 实验三、对OPC后版图修改第44-45页
 精确度分析第45-49页
结论第49-50页
参考文献第50-54页
致谢第54页

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