OPC的平滑矫正过程研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-6页 |
| 序言 | 第6-16页 |
| ·集成电路技术产业的发展 | 第6-9页 |
| ·EDA技术概述 | 第9-15页 |
| ·EDA技术的发展 | 第10-11页 |
| ·为可制造性而设计(DFM) | 第11-12页 |
| ·RET | 第12-15页 |
| ·本文所要完成的主要任务 | 第15-16页 |
| 问题分析 | 第16-26页 |
| ·OPC技术的主要方法 | 第16-23页 |
| ·OPC技术的问题分析 | 第23-26页 |
| 基本思路 | 第26-36页 |
| ·OPC版图修正分类 | 第26-30页 |
| ·光刻模型/操作规则修正 | 第26-28页 |
| ·OPC前版图修正 | 第28-29页 |
| ·OPC后版图修正 | 第29-30页 |
| ·版图修正分析 | 第30-31页 |
| ·纹波效应和影响范围分析 | 第31-34页 |
| ·图形重用 | 第34页 |
| ·修正过程中目前存在的问题 | 第34-36页 |
| 算法流程 | 第36-41页 |
| ·流程总图 | 第36页 |
| ·多边形匹配 | 第36-37页 |
| ·初始化 | 第37-39页 |
| ·局部和全局模式的划分 | 第37-38页 |
| ·初始化方法 | 第38-39页 |
| ·矫正过程 | 第39-41页 |
| 实验和分析 | 第41-49页 |
| 实验一、Recipe矫正 | 第41-43页 |
| 实验二、版图OPC前的修正 | 第43-44页 |
| 实验三、对OPC后版图修改 | 第44-45页 |
| 精确度分析 | 第45-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
