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新型围栅MOSFET建模与仿真研究

摘要第2-3页
Abstract第3-4页
目录第5-7页
第一章 引言第7-13页
    1.1 本文研究背景与意义第7-9页
        1.1.1 器件尺寸缩小带来的挑战以及解决方案第7-9页
        1.1.2 器件建模意义第9页
    1.2 围栅MOSFET建模研究现状第9-11页
    1.3 论文主要内容和安排第11-13页
第二章 围栅MOSFET基本原理及仿真研究第13-25页
    2.1 TCAD仿真工具介绍第13-17页
        2.1.1 仿真工具第13-14页
        2.1.2 模型选择第14-16页
        2.1.3 仿真应用举例第16-17页
    2.2 围栅MOSFET的工艺与基本原理第17-24页
        2.2.1 围栅MOSFET工艺第17-19页
        2.2.2 围栅MOSFET的基本原理与特性第19-24页
    2.3 本章小结第24-25页
第三章 围栅MOSFET的解析模型及仿真验证第25-40页
    3.1 电势模型第25-30页
    3.2 阈值电压模型第30-35页
    3.3 亚阈值电流模型第35-37页
    3.4 亚阈值摆幅模型第37-39页
    3.5 本章小结第39-40页
第四章 围栅MOSFET量子力学效应建模与仿真研究第40-54页
    4.1 量子力学效应对器件影响第40-44页
        4.1.1 量子力学效应对载流子分布影响第40-42页
        4.1.2 量子力学效应对电流电压特性影响第42-44页
    4.2 量子力学效应引起阈值电压漂移模型第44-53页
        4.2.1 量子力学效应物理基础第44-46页
        4.2.2 轻掺杂器件阈值电压漂移模型第46-49页
        4.2.3 重掺杂器件阈值电压漂移模型第49-50页
        4.2.4 模型结果分析第50-53页
    4.3 本章小结第53-54页
第五章 椭圆围栅MOSFET建模与仿真研究第54-62页
    5.1 椭圆型围栅MOSFET建模第54-56页
    5.2 结果验证和分析第56-61页
    5.3 本章小结第61-62页
第六章 总结与展望第62-63页
参考文献第63-67页
附录Ⅰ 反型层电子面电荷密度第67-68页
附录Ⅱ Sentaurus输入文件第68-70页
攻读硕士学位期间发表论文情况第70-71页
致谢第71-72页

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