| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·自旋电子学与稀磁半导体 | 第9-10页 |
| ·ZnO基稀磁半导体简介 | 第10-15页 |
| ·ZnO的基本结构、性质及应用 | 第10-13页 |
| ·ZnO基稀磁半导体的研究现状 | 第13-14页 |
| ·ZnO基稀磁半导体的磁性机制 | 第14-15页 |
| ·电场调制铁磁性的研究进展 | 第15-17页 |
| ·论文的选题依据和研究内容 | 第17-19页 |
| ·选题依据 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 薄膜的制备方法与表征手段 | 第19-27页 |
| ·Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜的制备方法 | 第19-23页 |
| ·薄膜制备技术简介 | 第19-20页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第20-22页 |
| ·PLD-5000系统简介 | 第22-23页 |
| ·Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜的表征手段 | 第23-27页 |
| ·X射线衍射分析 | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第24页 |
| ·综合物性测量仪 | 第24-25页 |
| ·铁电性能分析仪 | 第25-26页 |
| ·电场调制铁磁性 | 第26-27页 |
| 第3章 Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜的制备及性能表征 | 第27-42页 |
| ·Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜的制备过程 | 第27-28页 |
| ·衬底的选择 | 第27页 |
| ·衬底的清洗 | 第27-28页 |
| ·薄膜的沉积 | 第28页 |
| ·衬底温度对Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜性能的影响 | 第28-32页 |
| ·衬底温度对薄膜晶体结构的影响 | 第28-30页 |
| ·衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第30-31页 |
| ·衬底温度对薄膜铁磁性能的影响 | 第31-32页 |
| ·氧气分压对Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜性能的影响 | 第32-35页 |
| ·氧气分压对薄膜晶体结构的影响 | 第33页 |
| ·氧气分压对薄膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·氧气分压对薄膜铁磁性能的影响 | 第34-35页 |
| ·激光能量对Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜性能的影响 | 第35-38页 |
| ·激光能量对薄膜晶体结构的影响 | 第35-37页 |
| ·激光能量对薄膜表面形貌的影响 | 第37页 |
| ·激光能量对薄膜铁磁性能的影响 | 第37-38页 |
| ·氧气退火对Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜性能的影响 | 第38-41页 |
| ·氧气退火对薄膜晶体结构的影响 | 第38-39页 |
| ·氧气退火对薄膜表面形貌的影响 | 第39页 |
| ·氧气退火对薄膜铁磁性能的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 Mn掺杂ZnO铁磁性的第一性原理计算 | 第42-52页 |
| ·第一性原理计算理论及软件简介 | 第42-43页 |
| ·计算模型的构建 | 第43-44页 |
| ·计算结果与讨论 | 第44-48页 |
| ·Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜铁磁性起源探究 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第5章 Bi3.15Nd0.85Ti3O12/Zn_(0.98)Mn_(0.02)O异质结的制备及铁磁性调制研究 | 第52-60页 |
| ·Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜的铁电性能优化 | 第52-53页 |
| ·Bi3.15Nd0.85Ti3O12/Zn_(0.98)Mn_(0.02)O异质结的制备 | 第53-54页 |
| ·异质结的晶体结构表征 | 第54页 |
| ·异质结的表面形貌表征 | 第54-55页 |
| ·外电场对Zn_(0.98)Mn_(0.02)O薄膜铁磁性能的调制 | 第55-59页 |
| ·异质结的铁电性能测试与结果 | 第55-56页 |
| ·不同极化状态下的铁磁性变化 | 第56-57页 |
| ·外电场调制铁磁性的原理分析 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第6章 总结与展望 | 第60-62页 |
| ·论文总结 | 第60-61页 |
| ·论文展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第68页 |
