低辐射薄膜的制备与性能研究
| 第一章：引言 | 第1-21页 |
| §1．1 低辐射薄膜的发展与应用 | 第8-10页 |
| §1．2 低辐射薄膜的分类 | 第10-14页 |
| §1．2．1 在线膜及其制备方法 | 第10-11页 |
| §1．2．2 离线膜及其制备方法 | 第11-13页 |
| §1．2．3 在线膜与离线膜的比较 | 第13-14页 |
| §1．3 低辐射薄膜的性能 | 第14-16页 |
| §1．3．1 光学性能 | 第14-15页 |
| §1．3．2 热学性能 | 第15-16页 |
| §1．3．3 电学性能 | 第16页 |
| §1．4 低辐射薄膜国内外研究现状 | 第16-19页 |
| §1．5 本文的结构与主要工作 | 第19-21页 |
| 第二章：低辐射薄膜的设计 | 第21-41页 |
| §2．1 光学薄膜的基本原理 | 第21-34页 |
| §2．1．1 多层膜计算常用符号 | 第21-22页 |
| §2．1．2 光在两种介质界面上的行为 | 第22-25页 |
| §2．1．3 单层膜的光学性质 | 第25-26页 |
| §2．1．4 金属薄膜光学 | 第26-28页 |
| §2．1．5 多层介质膜的光学性质 | 第28-30页 |
| §2．1．6 导纳图 | 第30-34页 |
| §2．2 低辐射薄膜的设计 | 第34-39页 |
| §2．2．1 金属膜材料与厚度的确定 | 第34-35页 |
| §2．2．2 介质膜材料与厚度的确定 | 第35-38页 |
| §2．2．3 计算机模拟分析结果 | 第38-39页 |
| §2．3 本章小结 | 第39-41页 |
| 第三章：低辐射薄膜制备与分析 | 第41-51页 |
| §3．1 低辐射薄膜的制备 | 第41-45页 |
| §3．1．1 制备方法 | 第41-43页 |
| §3．1．2 镀膜设备 | 第43-44页 |
| §3．1．3 Low-E膜的制备 | 第44-45页 |
| §3．2 分析方法及原理 | 第45-50页 |
| §3．2．1 X射线衍射(XRD)分析 | 第45-46页 |
| §3．2．2 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第46-48页 |
| §3．2．3 分光光度计分析 | 第48页 |
| §3．2．4 膜厚的测量 | 第48-50页 |
| §3．3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章：实验结果与讨论 | 第51-79页 |
| §4．1 薄膜的物理性能 | 第51-53页 |
| §4．1．1 表面形貌 | 第51页 |
| §4．1．2 薄膜厚度 | 第51-52页 |
| §4．1．3 薄膜的成分与结构 | 第52-53页 |
| §4．2 保护层在制备低辐射薄膜中的作用 | 第53-59页 |
| §4．2．1 保护层的作用 | 第53-55页 |
| §4．2．2 保护层的选择 | 第55-59页 |
| §4．3 薄膜的光学性能 | 第59-74页 |
| §4．3．1 Low-E膜的品质因子 | 第60-62页 |
| §4．3．2 理论分析 | 第62-63页 |
| §4．3．3 实际测量 | 第63-74页 |
| §4．4 薄膜的光化学性能 | 第74-77页 |
| §4．4．1 TiO_2的光化学性 | 第74-76页 |
| §4．4．2 Low-E膜的光催化性能与超亲水性 | 第76-77页 |
| §4．5 本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章：结束语 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-84页 |
| 附录 | 第84-88页 |
| 程序 | 第84-87页 |
| 研究阶段所发表的论文 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
