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新型单层纳米半导体材料的光电性质研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
符号说明第9-10页
第一章 绪论第10-19页
    1.1 背景介绍第10-13页
        1.1.1 石墨烯第10-13页
        1.1.2 二硫化钼第13页
    1.2 黑磷第13-16页
        1.2.1 晶体结构第14-15页
        1.2.2 力学性质第15页
        1.2.3 热电性质第15页
        1.2.4 黑磷的制备第15-16页
        1.2.5 液相剥离法第16页
        1.2.6 脉冲激光沉积法第16页
    1.3 磷烯电子结构的调控第16-18页
    1.4 总结第18页
    1.5 本文的内容安排第18-19页
第二章 研究磷烯电子结构理论方法及其应力调控的意义第19-30页
    2.1 能带结构的计算方法第19-30页
        2.1.1 原胞法(Cellular Method)第19-21页
        2.1.2 缀加(增广)平面波法(Augemented Plane Wave Method)第21-22页
        2.1.3 格林函数法(Korring1947,Kohn Rostoker 1954)第22页
        2.1.4 正交平面波法: (Orthogonalized Plane Wave Method)第22-23页
        2.1.5 赝势法(Pseudopotentials)第23-25页
        2.1.6 密度泛函理论(The density-function theory)第25页
        2.1.7 紧束缚近似方法第25-30页
第三章 单层磷烯及其不同边界纳米带计算第30-40页
    3.1 磷烯的性质研究的计算第31-38页
        3.1.1 能带的紧束缚的计算第31-34页
        3.1.2 有效质量的计算第34-37页
        3.1.3 磷烯迁移率的计算第37-38页
    3.2 磷烯不同边界纳米带的电子结构的计算第38-40页
第四章 应力调控下的磷烯和磷烯纳米带的电子结构的研究第40-45页
    4.1 应力对二维磷烯电子结构的调控第40-41页
    4.2 磷烯zigzag-zigzag边界纳米带在应力调控下的电子结构第41-44页
    4.3 磷烯zigzag-zigzag边界纳米带在应力调控下的能带带隙的分析第44-45页
第五章 总结与展望第45-46页
    5.1 总结第45页
    5.2 展望第45-46页
参考文献第46-53页
致谢第53-54页
攻读期间发表的学术论文第54页

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