| 摘要 | 第11-12页 |
| ABSTRACT | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-29页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第14-15页 |
| 1.2 疏水现象和表面润湿性理论研究模型 | 第15-20页 |
| 1.2.1 疏水现象和定义 | 第15-16页 |
| 1.2.2 表面润湿性理论模型 | 第16-20页 |
| 1.3 影响表面润湿性的因素 | 第20-23页 |
| 1.3.1 表面化学特性的影响 | 第20页 |
| 1.3.2 几何结构的影响 | 第20-23页 |
| 1.3.3 外界环境的影响 | 第23页 |
| 1.4 疏水表面在防冰防霜领域的研究综述 | 第23-27页 |
| 1.4.1 疏水表面对冰粘附强度的影响 | 第24页 |
| 1.4.2 疏水表面对延缓冻结时间和防冰的影响 | 第24-26页 |
| 1.4.3 疏水表面对防霜和除霜的影响 | 第26-27页 |
| 1.5 本文主要内容 | 第27-29页 |
| 第二章 试验系统与实验方法 | 第29-41页 |
| 2.1 试验系统 | 第29-35页 |
| 2.1.1 半导体制冷系统 | 第29-31页 |
| 2.1.2 接触角测量系统 | 第31-35页 |
| 2.1.3 两种试验系统的比较 | 第35页 |
| 2.2 实验方法介绍 | 第35-40页 |
| 2.2.1 实验过程 | 第35-37页 |
| 2.2.2 参数的测量方法 | 第37-39页 |
| 2.2.3 误差分析 | 第39-40页 |
| 2.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 疏/亲水表面的制备和表面特性 | 第41-60页 |
| 3.1 非周期结构粗糙表面的制备和表面特性 | 第41-47页 |
| 3.1.1 喷涂-固化法制备粗糙表面 | 第41-46页 |
| 3.1.2 等离子体刻蚀法制备黑硅 | 第46-47页 |
| 3.2 周期结构粗糙表面的制备和表面特性 | 第47-57页 |
| 3.2.1 深硅刻蚀法制备微米级周期结构粗糙表面 | 第48-55页 |
| 3.2.2 激光加工法制备纳米级周期结构粗糙表面 | 第55-57页 |
| 3.3 周期结构、黑硅结合的二级粗糙表面的制备和表面特性 | 第57-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 疏/亲水表面特性对液滴润湿性和结冰特性的影响 | 第60-92页 |
| 4.1 疏/亲水表面特性对液滴润湿性的影响研究 | 第60-72页 |
| 4.1.1 喷涂-固化时间对液滴接触角影响 | 第60-62页 |
| 4.1.2 一级微米周期结构对液滴接触角影响 | 第62-65页 |
| 4.1.3 纳米级周期结构对液滴接触角影响 | 第65-66页 |
| 4.1.4 外界因素对液滴接触角影响 | 第66-69页 |
| 4.1.5 黑硅疏水性能研究 | 第69-72页 |
| 4.2 疏/亲水表面上单个液滴的冻结特性研究 | 第72-87页 |
| 4.2.1 不同表面特性的疏水表面上液滴冻结特性实验结果 | 第72-82页 |
| 4.2.2 表面温度对疏水表面液滴冻结变形的影响 | 第82-84页 |
| 4.2.3 环境湿度对疏水表面液滴冻结变形的影响 | 第84-85页 |
| 4.2.4 不同表面特性疏水表面液滴冻结变形的比较 | 第85-87页 |
| 4.3 变壁温条件下疏水表面上的液滴冻结特性研究 | 第87-89页 |
| 4.4 疏水表面上液滴首次与二次冻结变形差异的特性研究 | 第89-90页 |
| 4.5 本章小结 | 第90-92页 |
| 第五章 疏/亲水表面抑霜的理论分析和实验研究 | 第92-102页 |
| 5.1 疏水表面抑霜的理论分析 | 第92-96页 |
| 5.1.1 水的相图 | 第92-93页 |
| 5.1.2 疏水表面抑霜的理论分析 | 第93-96页 |
| 5.2 表面结构对霜层生长特性的影响 | 第96-99页 |
| 5.2.1 疏水表面与普通硅片霜层厚度比较 | 第96-97页 |
| 5.2.2 纳米亲水表面与普通硅片霜层厚度比较 | 第97-98页 |
| 5.2.3 接触角大小对霜层生长的影响 | 第98-99页 |
| 5.3 霜层结构特性研究 | 第99-101页 |
| 5.4 本章小结 | 第101-102页 |
| 结束语 | 第102-105页 |
| 致谢 | 第105-107页 |
| 参考文献 | 第107-112页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第112页 |
