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基于gm/ID的低功耗电路设计研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-11页
第1章 绪论第11-15页
   ·选题背景和意义第11-12页
   ·低功耗射频电路设计的研究现状及发展趋势第12-13页
   ·论文的主要内容和组织结构第13-15页
     ·主要研究内容第13-14页
     ·论文的组织结构第14-15页
第2章 射频模拟电路设计方法的基本理论第15-23页
   ·射频模拟电路设计方法简述第15-16页
   ·射频模拟电路设计的折中与优化第16-17页
   ·基于MOS晶体管反型区的研究进行低功耗电路设计第17-20页
   ·电路设计性能折中——MOS晶体管工作面的介绍第20-22页
   ·本章小结第22-23页
第3章 MOS晶体管工作特性及gm/ID设计方法的提出第23-42页
   ·有源器件MOS晶体管模型的简单介绍第23-24页
     ·EKV模型介绍第24页
   ·gm/ID设计方法总述第24-25页
   ·gm/ID设计方法提出背景——MOS管工作特性第25-29页
     ·MOS晶体管工作在强反型层的特性第25-27页
     ·MOS晶体管工作在弱反型层的特性第27-28页
     ·MOS晶体管工作在中等反型层的特性第28-29页
   ·gm/ID设计方法的具体实现第29-40页
     ·gm/ID特性曲线与晶体管尺寸的关系第31-33页
     ·gm/ID特性曲线与漏极电压以及工艺角的关系第33-34页
     ·gm/ID特性曲线与截止频率和寄生电容的关系第34-38页
     ·gm/ID特性曲线与gds/ID的关系第38-40页
   ·gm/ID曲线的电路仿真图第40-42页
第4章 利用gm/ID设计方法设计低功耗LC-VCO第42-68页
   ·目前LC-VCO设计优化方法的总结第42-43页
   ·LC-VCO的理论分析第43-49页
     ·LC-VCO基本组成-负反馈电路第43-46页
     ·LC-VCO小信号电路模型分析第46-49页
   ·LC-VCO中适用于所有反型区的相位噪声模型第49-53页
     ·1/f~2相位噪声模型第51-53页
     ·1/f~3相位噪声模型第53页
   ·闪烁噪声的转折频率第53-54页
   ·LC-VCO的设计流程图第54-57页
   ·仿真分析第57-61页
     ·电路结构图第57-59页
     ·仿真结果第59-61页
     ·仿真结果比较第61页
   ·共源共栅OTA设计与优化第61-67页
     ·电路分析第61-65页
     ·电路结构描述第65-66页
     ·性能仿真第66-67页
   ·本章总结第67-68页
第5章 版图设计第68-75页
   ·版图设计需考虑因素第68-71页
     ·电路匹配性第68-69页
     ·衬底耦合与信号线耦合第69-70页
     ·寄生效应第70-71页
   ·版图设计中需要注意事项第71-72页
     ·输入输出防静电损伤(ESD)第71页
     ·闩锁效应的预防第71-72页
   ·整体电路版图绘制第72-74页
   ·本章总结第74-75页
第6章 总结与展望第75-77页
   ·总结第75页
   ·展望第75-77页
致谢第77-78页
参考文献第78-82页
附录第82页

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