| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-10页 |
| ·BCD 工艺简介 | 第6-7页 |
| ·PDK 库与模拟集成电路设计的关系 | 第7-9页 |
| ·本文的工作内容 | 第9-10页 |
| 第二章 PDK 基础知识及开发工具 | 第10-18页 |
| ·PDK 库基础知识 | 第10-12页 |
| ·PAS 工具简介 | 第12-16页 |
| ·小结 | 第16-18页 |
| 第三章 0.5μm BCD 工艺 PDK 开发分析 | 第18-56页 |
| ·PDK 开发准备工作 | 第18页 |
| ·工艺文件开发 | 第18-22页 |
| ·PV Rule 文件的开发 | 第22-26页 |
| ·DRC 文件的开发 | 第22-24页 |
| ·LVS 文件的开发 | 第24-26页 |
| ·Pcell 器件基本概念 | 第26-32页 |
| ·Pcell 器件原理 | 第26-27页 |
| ·CDF 参数分析 | 第27-32页 |
| ·基于 PAS 工具 Pcell 的开发 | 第32-55页 |
| ·MOS 管参数化单元开发 | 第33-44页 |
| ·电阻参数化单元开发 | 第44-50页 |
| ·三极管参数化单元开发 | 第50-52页 |
| ·二极管参数化单元开发 | 第52-54页 |
| ·电容参数化单元开发 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第四章 PDK 库验证 | 第56-64页 |
| ·Pcell 及 PV Rule 验证 | 第56-60页 |
| ·Pcell 验证 | 第56-59页 |
| ·PV Rule 文件验证 | 第59-60页 |
| ·设计流程验证 | 第60-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |