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考虑源漏电场的准二维MOSFET阈值电压模型

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
目录第7-9页
第一章 绪论第9-17页
   ·MOS器件的发展第9-10页
   ·MOS器件的发展趋势及问题第10-13页
     ·MOS器件的发展趋势第10-11页
     ·MOS器件面临的问题第11-13页
   ·半导体器件主要研究方法第13-15页
   ·本文主要工作第15-17页
第二章 MOS阈值电压理论及小尺寸物理效应第17-27页
   ·MOS器件的阈值电压理论第17-20页
     ·耗尽层变化第17-18页
     ·普通MOS器件的闽值电压理论第18-20页
   ·小尺寸MOS器件物理效应第20-25页
     ·短沟道效应第20-22页
     ·窄沟道效应第22-23页
     ·热载流子效应第23-24页
     ·热电子效应第24页
     ·弹道输运第24-25页
   ·SOI MOS器件第25页
   ·本章小结第25-27页
第三章 考虑源漏电场的准二维MOS阈值电压建模第27-42页
   ·经典长沟道MOSFET阈值电压第28-31页
     ·平带电压第28-29页
     ·耗尽层厚度和表面势第29-30页
     ·阈值电压第30-31页
   ·突变结空间电荷区电场和宽度第31-34页
     ·突变结空间电荷区电场第31-33页
     ·突变结空间电荷区宽度第33-34页
   ·考虑源漏电场的MOSFET阈值电压第34-39页
     ·方程建立第34-36页
     ·源、漏结电场求解第36-37页
     ·表面势求解第37-39页
   ·阈值电压表达式第39-41页
   ·本章小结第41-42页
第四章 仿真与理论计算第42-52页
   ·拟合参数α的确定第42-44页
   ·MEDICI仿真与理论计算第44-51页
   ·本章小结第51-52页
第五章 总结第52-54页
参考文献第54-58页
致谢第58-59页
攻读学位期间发表的学术论文第59页

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