非制冷红外焦平面在工业测温系统中的研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 引言 | 第8-12页 |
·课题背景 | 第8-9页 |
·国内外研究现状 | 第9-10页 |
·本文的主要内容 | 第10-11页 |
·本文的创新点 | 第11-12页 |
第二章 红外测温基本理论 | 第12-20页 |
·辐射度量学 | 第12-13页 |
·朗伯辐射体与朗伯余弦定律 | 第13-14页 |
·吸收、反射、透射定律 | 第14-15页 |
·基尔霍夫定律 | 第15-16页 |
·普朗克公式 | 第16-17页 |
·维恩位移公式和瑞利—金斯公式 | 第17页 |
·发射率与实体辐射 | 第17-18页 |
·本章小结 | 第18-20页 |
第三章 红外热像仪的比色测温 | 第20-39页 |
·非制冷焦平面红外热像仪的组成与工作原理 | 第20-21页 |
·红外焦平面阵列 | 第21-26页 |
·红外焦平面阵列的分类 | 第21-22页 |
·四种红外焦平面阵列 | 第22-24页 |
·UL01011型非制冷微测辐射热计技术参数 | 第24-26页 |
·非制冷焦平面器件使用过程中的注意事项 | 第26-27页 |
·基于非制冷红外焦平面阵列的比色测温 | 第27-32页 |
·测温原理 | 第27-28页 |
·最佳双色波组合的选择原则 | 第28-31页 |
·(8.8μm,10.6μm)的双波组合 | 第31页 |
·最佳波长组合选择的结论 | 第31-32页 |
·滤波片最小带宽的计算 | 第32-33页 |
·热像仪测温范围的拓展 | 第33-38页 |
·测温范围拓展的基本原理 | 第33-37页 |
·加装不同衰减片后获得的实验图像 | 第37-38页 |
·测温范围拓展的结论 | 第38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第四章 测温系统的构成 | 第39-44页 |
·测温系统的构成 | 第39页 |
·测温系统工作流程 | 第39-40页 |
·系统的软件设计流程 | 第40-41页 |
·待测工件表面温度分布的显示 | 第41-43页 |
·伪彩色编码显示 | 第41页 |
·数据的输出方式 | 第41-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第五章 数据修正和图像修正 | 第44-57页 |
·非制冷焦平面红外热像仪的温度控制系统 | 第44-49页 |
·非制冷焦平面阵列温度控制原理 | 第44-45页 |
·热电制冷控制器 | 第45-46页 |
·精密放大器 | 第46页 |
·比例微积分补偿网络 | 第46-49页 |
·K值的标定 | 第49-52页 |
·图像的滤波处理 | 第52-56页 |
·邻域平均法 | 第52-53页 |
·中值滤波法 | 第53-54页 |
·多图平均法 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第六章 结论与展望 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
攻读硕士期间发表的学术论文 | 第61页 |