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同时具有隔离层和场板的4H-SiC MESFET特性优化研究

摘要第1-4页
Abstract第4-8页
第一章 绪论第8-14页
   ·SiC材料的特性第8-10页
   ·4H-SiC MESFET发展现状第10-12页
   ·本文的主要工作第12-14页
第二章 4H-SiC MESFE的基本模型及数值模拟方法第14-24页
   ·ISE TCAD 模拟中的模型及参数选取第14-16页
     ·ISE- TCAD简介第14页
     ·算法的设置第14-15页
     ·基本方程第15-16页
   ·4H-SiC MESFET基本模型和研究方法第16-22页
     ·材料特性的模型和参数第16-21页
     ·使用ISE-TCAD的模拟方法第21-22页
   ·本章小结第22-24页
第三章 陷阱对4H-SiC MESFE直流特性的影响第24-36页
   ·MESFET工作原理第24-25页
   ·4H-SiC中存在陷阱类型及特点第25-29页
     ·表面陷阱第26-28页
     ·体陷阱第28-29页
   ·表面陷阱对4H-SiC MESFE直流特性的影响第29-34页
     ·表面陷阱密度对直流特性的影响第30-32页
     ·表面陷阱能级对直流特性的影响第32-33页
     ·表面陷阱对跨导和漏导的影响第33-34页
   ·本章小结第34-36页
第四章 隔离层结构对表面陷阱效应的抑制和对直流特性的改善第36-48页
   ·隔离层结构的研究现状第36-37页
   ·隔离层参数对直流特性的影响第37-45页
     ·隔离层掺杂浓度对直流特性的影响第38-39页
     ·隔离层厚度对直流特性的影响第39-40页
     ·埋栅深度对直流特性的影响第40-45页
   ·隔离层结构对直流特性的改善第45-47页
   ·本章小结第47-48页
第五章 隔离层上场板对直流特性的影响第48-57页
   ·场板结构第48-49页
   ·栅源场板对直流特性的影响第49-51页
   ·栅源场板对击穿特性的影响第51-56页
   ·本章小结第56-57页
第六章 总结与展望第57-59页
致谢第59-60页
参考文献第60-64页
硕士期间参加课题第64-65页

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