用于DMD光刻机的匀光系统的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 光刻技术 | 第9-10页 |
| 1.3 基于DMD的无掩膜光刻技术 | 第10-16页 |
| 1.3.1 光源 | 第11-12页 |
| 1.3.2 DMD器件 | 第12-13页 |
| 1.3.3 光学成像系统 | 第13页 |
| 1.3.4 匀光系统 | 第13-16页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章 半导体激光器光源模块的设计 | 第18-29页 |
| 2.1 半导体激光器信号处理以及控制系统 | 第19-20页 |
| 2.1.1 温度控制 | 第19-20页 |
| 2.1.2 光源输出强度控制 | 第20页 |
| 2.1.3 光源输出模式控制 | 第20页 |
| 2.2 传统微透镜阵匀光系统 | 第20-24页 |
| 2.2.1 匀光原理 | 第20-22页 |
| 2.2.2 模拟仿真 | 第22-24页 |
| 2.3 随机微透镜阵列匀光系统 | 第24-28页 |
| 2.3.1 模拟仿真 | 第25-26页 |
| 2.3.2 实验验证 | 第26-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 自由曲面透镜的设计 | 第29-38页 |
| 3.1 非成像光学与自由曲面简介 | 第29页 |
| 3.2 非成像光学的基本定律 | 第29-30页 |
| 3.2.1 边缘光线原理 | 第29页 |
| 3.2.2 能量守恒定律 | 第29-30页 |
| 3.3 入射光为平行光的自由曲面透镜设计 | 第30-33页 |
| 3.3.1 能量映射网格的构建 | 第30-31页 |
| 3.3.2 求解面型点 | 第31-33页 |
| 3.4 光源为点光源的自由曲面设计 | 第33-35页 |
| 3.5 模拟仿真 | 第35-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-38页 |
| 第四章 自由曲面微透镜阵列匀光系统的设计 | 第38-45页 |
| 4.1 自由曲面微透镜阵列的参数 | 第38-40页 |
| 4.2 自由曲面周期微透镜阵列 | 第40-42页 |
| 4.2.1 设计原理 | 第40-41页 |
| 4.2.2 模拟仿真 | 第41-42页 |
| 4.3 自由曲面随机微透镜阵列 | 第42-43页 |
| 4.3.1 设计原理 | 第42页 |
| 4.3.2 模拟仿真 | 第42-43页 |
| 4.4 偏差影响 | 第43-44页 |
| 4.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 总结与展望 | 第45-46页 |
| 5.1 工作总结 | 第45页 |
| 5.2 未来展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第50页 |
