| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 液体射流破碎机理 | 第12-19页 |
| 1.2.1 首次破碎机理 | 第13-15页 |
| 1.2.2 射流破碎的特征参数 | 第15-18页 |
| 1.2.3 射流破碎的影响因素 | 第18-19页 |
| 1.3 射流雾化机理的研究现状 | 第19-26页 |
| 1.3.1 静止气体中的圆射流 | 第21-22页 |
| 1.3.2 横向气体中的圆射流 | 第22-24页 |
| 1.3.3 平面液膜破碎 | 第24-26页 |
| 1.4 射流雾化实验研究进展 | 第26页 |
| 1.5 射流雾化数值模拟研究进展 | 第26-28页 |
| 1.6 本文的研究内容 | 第28-30页 |
| 第2章 射流雾化流场求解方法 | 第30-49页 |
| 2.1 射流雾化流场的数值模型 | 第30-37页 |
| 2.1.1 基于Eulerian-Lagrangian框架的雾化过程建模研究 | 第31-35页 |
| 2.1.2 基于Eulerian-Eulerian框架的雾化过程界面追踪模拟研究 | 第35-37页 |
| 2.2 控制方程 | 第37-38页 |
| 2.2.1 质量守恒方程 | 第37-38页 |
| 2.2.2 动量守恒方程 | 第38页 |
| 2.3 表面张力模型 | 第38-39页 |
| 2.4 VOF方法的基本原理 | 第39-42页 |
| 2.5 界面重构技术 | 第42-45页 |
| 2.6 人工压缩界面输运方程 | 第45-46页 |
| 2.7 NVD型高阶GDS有界格式 | 第46-47页 |
| 2.8 本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 低速圆射流数值模拟 | 第49-61页 |
| 3.1 物理模型描述与计算参数设置 | 第49-50页 |
| 3.2 We=3.1射流的数值模拟结果 | 第50-56页 |
| 3.2.1 二维数值模拟结果 | 第50-51页 |
| 3.2.2 三维算例验证对比 | 第51-52页 |
| 3.2.3 射流破碎过程 | 第52-54页 |
| 3.2.4 速度场 | 第54-55页 |
| 3.2.5 射流破碎长度 | 第55-56页 |
| 3.3 We=16.2射流的数值模拟结果 | 第56-59页 |
| 3.3.1 射流破碎过程 | 第56-57页 |
| 3.3.2 速度场 | 第57-58页 |
| 3.3.3 射流破碎长度 | 第58-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 高速圆射流数值模拟 | 第61-73页 |
| 4.1 物理模型描述与计算参数设置 | 第61-62页 |
| 4.2 数值模拟结果分析与讨论 | 第62-72页 |
| 4.2.1 网格无关性验证 | 第62-66页 |
| 4.2.2 射流整体结构 | 第66-68页 |
| 4.2.3 扰动的产生和传播 | 第68-70页 |
| 4.2.4 液丝形成机制 | 第70-71页 |
| 4.2.5 液丝的发展和液滴形成机制 | 第71-72页 |
| 4.3 本章小结 | 第72-73页 |
| 第5章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第73-74页 |
| 5.2 未来研究展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 作者简历 | 第83页 |