| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 金刚石的结构与性质 | 第14-17页 |
| 1.2.1 金刚石的结构 | 第14-15页 |
| 1.2.2 金刚石的力学性质 | 第15页 |
| 1.2.3 金刚石的电学性质 | 第15-16页 |
| 1.2.4 金刚石的热学性质 | 第16-17页 |
| 1.2.5 金刚石的化学性质 | 第17页 |
| 1.3 铜的基本性质 | 第17页 |
| 1.4 铜/金刚石复合材料国内外研究进展 | 第17-21页 |
| 1.4.1 高温高压烧结法制备铜/金刚石研究进展 | 第18页 |
| 1.4.2 SPS 烧结法制备铜/金刚石研究进展 | 第18-19页 |
| 1.4.3 其他方法制备铜/金刚石研究进展 | 第19页 |
| 1.4.4 CVD 制备铜基金刚石薄膜研究进展 | 第19-20页 |
| 1.4.4.1 平直界面过渡层制备 CVD 金刚石薄膜 | 第19-20页 |
| 1.4.4.2 镶嵌界面过渡层制备 CVD 金刚石薄膜 | 第20页 |
| 1.4.5 CVD 金刚石界面热阻及其研究现状 | 第20-21页 |
| 1.5 选题依据 | 第21-22页 |
| 1.6 研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验材料设备与表征 | 第24-33页 |
| 2.1 实验流程 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第25页 |
| 2.2 实验设备及原理 | 第25-27页 |
| 2.2.1 电镀设备 | 第25页 |
| 2.2.2 电镀原理 | 第25-26页 |
| 2.2.3 铜铬共沉积原理 | 第26-27页 |
| 2.3 磁控溅射设备及原理 | 第27-28页 |
| 2.3.1 磁控溅射设备 | 第27-28页 |
| 2.3.2 磁控溅射原理 | 第28页 |
| 2.3.3 磁控溅射 Cr 膜过程 | 第28页 |
| 2.4 悬浮液法制备镶嵌过渡层 | 第28-29页 |
| 2.4.1 金刚石悬浮液的制备 | 第28-29页 |
| 2.4.2 压制制备镶嵌过渡层 | 第29页 |
| 2.5 热丝化学气相沉积设备 | 第29-30页 |
| 2.6 表征方法 | 第30-33页 |
| 2.6.1 扫描电子显微镜 | 第30页 |
| 2.6.2 激光拉曼光谱仪 | 第30-31页 |
| 2.6.3 多功能 3D 表面测试系统 | 第31页 |
| 2.6.4 X 射线衍射仪 | 第31-32页 |
| 2.6.5 表面洛氏硬度计 | 第32-33页 |
| 第三章 镶嵌结构 CVD 金刚石膜的研究 | 第33-51页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 复合镀-镶嵌结构过渡层及其 CVD 膜的研究 | 第34-43页 |
| 3.2.1 复合镀制备镶嵌过渡层的工艺 | 第34-35页 |
| 3.2.2 不同电镀工艺制备的镶嵌过渡层的研究 | 第35-36页 |
| 3.2.3 镶嵌复合过渡层表面沉积 CVD 金刚石涂层的形貌、结构和性能 | 第36-43页 |
| 3.2.3.1 CVD 金刚石膜表面形貌分析 | 第36-39页 |
| 3.2.3.2 CVD 金刚石膜的结构分析 | 第39-40页 |
| 3.2.3.3 CVD 金刚石薄膜拉曼分析 | 第40-43页 |
| 3.3 模压处理镶嵌结构界面 CVD 金刚石的研究 | 第43-48页 |
| 3.3.1 引言 | 第43页 |
| 3.3.2 模压处理镶嵌结构界面 CVD 金刚石膜形貌分析 | 第43-45页 |
| 3.3.3 模压处理镶嵌结构界面 CVD 金刚石物相及拉曼分析 | 第45-46页 |
| 3.3.4 模压处理镶嵌结构界面 CVD 薄膜表面粗糙度分析 | 第46-48页 |
| 3.4 模压处理镶嵌结构界面过渡层截面分析 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 掺 Cr 压制镶嵌界面 CVD 金刚石膜的研究 | 第51-63页 |
| 4.1 引言 | 第51-52页 |
| 4.2 紫铜压入制备镶嵌过渡层 CVD 金刚石膜的研究 | 第52-55页 |
| 4.2.1 金刚石悬浮液的制备 | 第52-53页 |
| 4.2.2 压制凹槽处 CVD 金刚石形核的研究 | 第53-54页 |
| 4.2.3 CVD 后金刚石薄膜的研究 | 第54-55页 |
| 4.3 磁控溅射 Cr 对 CVD 金刚石的影响 | 第55-60页 |
| 4.3.1 磁控溅射 Cr 膜 | 第55-56页 |
| 4.3.2 铜基磁控溅射 Cr 膜 CVD 金刚石的研究 | 第56-57页 |
| 4.3.3 超声震荡形核处理 CVD 后形貌研究 | 第57-58页 |
| 4.3.4 金刚石粉悬浮液压制镶嵌结构 CVD 金刚石膜的研究 | 第58-60页 |
| 4.4 铜铬合金模压处理制备镶嵌 CVD 金刚石膜的研究 | 第60-62页 |
| 4.4.1 压入法制备金刚石镶嵌过渡层 | 第60页 |
| 4.4.2 铜铬合金压制镶嵌过结构 CVD 金刚石膜的研究 | 第60-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 掺 Cr 镶嵌金刚石膜/基界面结构和性能的研究 | 第63-77页 |
| 5.1 引言 | 第63-64页 |
| 5.2 镶嵌结构 CVD 金刚石膜结合力研究 | 第64-69页 |
| 5.2.1 W5 镶嵌界面结构金刚石膜基结合力分析 | 第64-65页 |
| 5.2.2 W10 镶嵌界面结构金刚石结合力分析 | 第65-67页 |
| 5.2.3 W10 模压处理镶嵌界面金刚石膜结合力分析 | 第67-68页 |
| 5.2.4 模压处理铜铬合金镶嵌金刚石膜结合力的分析 | 第68-69页 |
| 5.3 掺 Cr 铜基镶嵌结构金刚石膜界面的研究 | 第69-75页 |
| 5.3.1 磁控溅射 Cr 镶嵌结构金刚石膜界面形貌分析 | 第69页 |
| 5.3.2 磁控溅射 Cr 镶嵌结构金刚石膜界面能谱分析 | 第69-70页 |
| 5.3.3 Cu-Cr 合金镶嵌结构金刚石膜界面形貌分析 | 第70-71页 |
| 5.3.4 Cu-Cr 合金镶嵌结构金刚石膜界面成分分析 | 第71-75页 |
| 5.4 本章小结 | 第75-77页 |
| 结论与展望 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-86页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 答辩委员会对论文的评定意见 | 第88页 |
