| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| 1.1 立题背景 | 第13-16页 |
| 1.2 冶金法制备太阳能级多晶硅及研究现状 | 第16-26页 |
| 1.2.1 工业硅的生产 | 第16-17页 |
| 1.2.2 炉外精炼 | 第17-20页 |
| 1.2.3 湿法浸出 | 第20-22页 |
| 1.2.4 真空熔炼 | 第22-24页 |
| 1.2.5 定向凝固 | 第24-26页 |
| 1.3 冶金法提纯工艺中非金属杂质磷的去除研究现状 | 第26-28页 |
| 1.4 研究课题的提出目的、内容及方案 | 第28-31页 |
| 第二章 硅中磷的分布规律 | 第31-41页 |
| 2.1 实验原料与设备 | 第31页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第31页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第31页 |
| 2.2 实验方法 | 第31-33页 |
| 2.2.1 实验流程图 | 第31-32页 |
| 2.2.2 实验操作 | 第32-33页 |
| 2.3 工业硅的微观形貌 | 第33-35页 |
| 2.4 工业硅、母合金质量比为1:2重熔后样品的微观形貌 | 第35-36页 |
| 2.5 工业硅、母合金质量比为1:1重熔后样品的微观形貌 | 第36-38页 |
| 2.6 Si-P二元系 | 第38-39页 |
| 2.7 本章小结 | 第39-41页 |
| 第三章 炉外精炼对酸洗提纯工业硅除磷影响的研究 | 第41-59页 |
| 3.1 引言 | 第41-42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 3.2.1 实验原料的制备 | 第42-43页 |
| 3.2.2 腐蚀实验 | 第43页 |
| 3.2.3 湿法提纯实验 | 第43-44页 |
| 3.3 炉外精炼对工业硅中非金属杂质P析出的影响 | 第44-48页 |
| 3.3.1 原生工业硅熔体凝固后硅中典型杂质相微观结构 | 第44-46页 |
| 3.3.2 精炼后工业硅熔体凝固后硅中典型杂质相微观结构 | 第46-48页 |
| 3.4 非金属杂质P的湿法浸出去除研究 | 第48-55页 |
| 3.4.1 工业硅中杂质磷的粒级分布规律 | 第48-49页 |
| 3.4.2 粒度的影响 | 第49-50页 |
| 3.4.3 酸浸时间的影响 | 第50-51页 |
| 3.4.4 酸浸温度的影响 | 第51-52页 |
| 3.4.5 机械搅拌速率的影响 | 第52页 |
| 3.4.6 浓度的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.7 液固比的影响 | 第53-54页 |
| 3.4.8 最优工艺条件下的除磷效果 | 第54-55页 |
| 3.5 酸浸过程对工业硅微观结构的影响 | 第55-57页 |
| 3.5.1 湿法浸出对原生工业硅杂质磷赋存状态的影响 | 第55-56页 |
| 3.5.2 湿法浸出对精炼后工业硅杂质赋存状态的影响 | 第56-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 复合浸出体系对提纯工业硅的研究 | 第59-73页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 实验部分 | 第59-60页 |
| 4.2.1 实验原料与仪器 | 第59-60页 |
| 4.2.2 腐蚀实验 | 第60页 |
| 4.2.3 湿法提纯实验 | 第60页 |
| 4.3 不同类型酸液对工业硅除磷效果的影响 | 第60-61页 |
| 4.4 HCl-HF混合酸的协同浸出除杂效果 | 第61-64页 |
| 4.4.1 HF浓度对非金属P的影响 | 第61-62页 |
| 4.4.2 HF对金属杂质去除的影响 | 第62-64页 |
| 4.5 添加剂醋酸的强化浸出 | 第64-66页 |
| 4.6 复合体系酸浸过程对工业硅微观结构的影响 | 第66-70页 |
| 4.6.1 HCl-HF体系对工业硅中杂质相的影响 | 第66-68页 |
| 4.6.2 HCl-HF-CH_3COOH体系对工业硅中杂质相的影响 | 第68-70页 |
| 4.7 本章小结 | 第70-73页 |
| 第五章 氧化焙烧预处理对酸洗提纯工业硅除磷的影响 | 第73-87页 |
| 5.1 引言 | 第73-74页 |
| 5.2 氧化原理 | 第74-75页 |
| 5.3 实验部分 | 第75-76页 |
| 5.3.1 氧化焙烧 | 第75页 |
| 5.3.2 酸浸 | 第75页 |
| 5.3.3 表征及检测 | 第75-76页 |
| 5.4 氧化温度的影响 | 第76-79页 |
| 5.4.1 不同氧化温度对工业硅增重率的影响 | 第76-77页 |
| 5.4.2 不同氧化温度对工业硅酸浸除硼的影响 | 第77-78页 |
| 5.4.3 不同氧化温度对工业硅酸浸除磷的影响 | 第78-79页 |
| 5.5 保温时间的影响 | 第79-80页 |
| 5.5.1 不同保温时间对工业硅增重率的影响 | 第79-80页 |
| 5.5.2 不同保温时间对工业硅酸浸除硼的影响 | 第80页 |
| 5.6 氧化焙烧对工业硅微观结构的影响 | 第80-85页 |
| 5.6.1 氧化后工业硅截面的微观结构 | 第80-82页 |
| 5.6.2 氧化后工业硅平面的微观结构 | 第82-85页 |
| 5.7 本章小结 | 第85-87页 |
| 第六章 结论与展望 | 第87-89页 |
| 6.1 结论 | 第87-88页 |
| 6.2 展望 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-101页 |
| 附录 (攻读学位期间发表论文目录) | 第101页 |
