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半导体纳米器件的噪声模型及其应用研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
目录第8-11页
第一章 绪论第11-21页
   ·研究背景第11-17页
     ·纳米结构与半导体纳米器件第11-12页
     ·噪声的两面性第12-17页
   ·论文的主要内容第17-21页
     ·论文特色第17-18页
     ·章节安排第18-21页
第二章 半导体纳米器件中的噪声第21-41页
   ·半导体纳米器件中的热噪声第21-23页
     ·热噪声的基本特性第21-22页
     ·热噪声模型第22-23页
   ·半导体纳米器件中的低频噪声第23-29页
     ·低频噪声的表现形式第23-26页
     ·低频噪声模型第26-29页
   ·半导体纳米器件中的散粒噪声第29-38页
     ·散粒噪声的基本特性第29-30页
     ·散粒噪声模型第30-38页
   ·小结第38-41页
第三章 量子点接触的噪声模型与相关特性分析第41-57页
   ·引言第41-43页
   ·基于兰道尔公式的噪声模型与QPC传感器的本征灵敏度分析第43-49页
     ·基本模型第43-45页
     ·温度对噪声的影响第45-46页
     ·QPC传感器的本征灵敏度分析第46-49页
   ·基于非平衡格林函数的噪声模型与噪声特性分析第49-55页
     ·非平衡格林函数方法的特点第49-50页
     ·基本模型第50-52页
     ·QPC的噪声特性分析第52-55页
   ·小结第55-57页
第四章 自旋晶体管中散粒噪声与自旋极化的关系第57-69页
   ·引言第57-58页
   ·基于自旋分辨散射矩阵的散粒噪声模型第58-60页
   ·自旋晶体管中自旋极化的表征方法第60-61页
   ·模拟结果与讨论第61-66页
     ·单通道的解析结果与讨论第61-62页
     ·多通道的数值模拟结果与讨论第62-66页
   ·小结第66-69页
第五章 高k栅栈MOSFETs的低频噪声模型及其应用第69-85页
   ·引言第69-72页
   ·基本模型第72-74页
   ·改进的低频噪声模型第74-78页
     ·高k栅栈结构中的陷阱分布第74-75页
     ·基于缺陷分布的分层低频噪声模型第75-78页
   ·低频噪声模型的应用第78-83页
     ·基于改进低频噪声模型的定性结论第78-79页
     ·基于改进低频噪声模型的定量结果第79-80页
     ·基于低频噪声拟合的缺陷表征思路第80-83页
   ·小结第83-85页
第六章 基于FCS理论的逆问题研究第85-101页
   ·引言第85-86页
   ·纳米结构中FCS的理论简介与研究进展第86-90页
     ·纳米结构中FCS的理论简介第86-87页
     ·FCS的理论进展第87-88页
     ·FCS的实验进展第88-90页
   ·互斥模型理论与计算步骤第90-93页
     ·对流互斥理论第90-92页
     ·隧穿互斥模型第92-93页
   ·Monte Carlo技巧产生两种互斥模型的时间序列第93-96页
     ·Monte Carlo模型第93-94页
     ·Monte Carlo模型的验证第94-95页
     ·两种互斥模型关系的讨论第95-96页
   ·互斥模型的逆问题提法—单势垒结构的机理判断与参数识别第96-99页
     ·基本原理和步骤第96-98页
     ·用Monte Carlo模拟的时间序列进行验证第98-99页
   ·小结第99-101页
第七章 总结第101-105页
致谢第105-107页
参考文献第107-119页
研究成果第119-120页

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