| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第10-20页 |
| 1.1 课题研究的背景 | 第10-11页 |
| 1.2 空蚀概述 | 第11-15页 |
| 1.2.1 空蚀的基本失效机理 | 第11-13页 |
| 1.2.2 空蚀的影响因素 | 第13-14页 |
| 1.2.3 抑制空蚀的措施 | 第14-15页 |
| 1.3 常见的空蚀现象 | 第15-17页 |
| 1.4 国内外空蚀防护的研究现状 | 第17-18页 |
| 1.5 本文的主要研究内容及其意义 | 第18-20页 |
| 1.5.1 本文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 1.5.2 研究的目的与意义 | 第19-20页 |
| 第2章 涂层材料和涂层制备工艺的选择 | 第20-36页 |
| 2.1 常用的抗空蚀涂层材料 | 第20-22页 |
| 2.1.1 铁基合金 | 第20页 |
| 2.1.2 镍基合金 | 第20-21页 |
| 2.1.3 钴基合金 | 第21页 |
| 2.1.4 WC基 | 第21-22页 |
| 2.2 WC基涂层材料 | 第22-27页 |
| 2.2.1 WC-Co系列 | 第22-24页 |
| 2.2.2 WC-Co-Cr系列 | 第24-27页 |
| 2.3 涂层的制备工艺选择 | 第27-35页 |
| 2.3.1 WC涂层常用的制备方法 | 第27-28页 |
| 2.3.2 喷涂参数优化 | 第28-34页 |
| 2.3.3 涂层试样的制备方法 | 第34-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 WC基涂层的形成机制与组织结构 | 第36-49页 |
| 3.1 HVOF制备WC基涂层中粉末的沉积行为 | 第36-40页 |
| 3.2 金相样品制备及显微组织分析 | 第40-47页 |
| 3.2.1 涂层组织结构 | 第40-43页 |
| 3.2.2 涂层相分析 | 第43-45页 |
| 3.2.3 涂层孔隙率测试 | 第45-47页 |
| 3.3 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 WC涂层的力学性能和电化学特性 | 第49-56页 |
| 4.1 涂层的显微硬度 | 第49-50页 |
| 4.2 涂层开裂韧性测试 | 第50-52页 |
| 4.3 涂层电化学特性 | 第52-55页 |
| 4.3.1 涂层电化学特性测试方法 | 第52-54页 |
| 4.3.2 试验结果分析 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 WC-CoCr涂层空蚀行为与空蚀机理研究 | 第56-76页 |
| 5.1 WC涂层空蚀机理试验 | 第56-59页 |
| 5.2 涂层空蚀损伤行为 | 第59-67页 |
| 5.2.1 不同空蚀阶段涂层空蚀表面形貌 | 第60-66页 |
| 5.2.2 涂层空蚀截面形貌 | 第66-67页 |
| 5.2.3 空蚀磨粒特征 | 第67页 |
| 5.3 涂层空蚀机理研究 | 第67-71页 |
| 5.3.1 空蚀中的机械作用 | 第68-69页 |
| 5.3.2 空蚀过程中的腐蚀作用 | 第69-71页 |
| 5.4 涂层空蚀物理模型 | 第71-73页 |
| 5.5 不同结构WC-10Co-4Cr涂层空蚀机理的差异 | 第73-74页 |
| 5.6 本章小结 | 第74-76页 |
| 第6章 总结与展望 | 第76-79页 |
| 6.1 结论 | 第76-77页 |
| 6.2 创新点 | 第77页 |
| 6.3 展望 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 攻读学位期间发表的论文及参加的科研项目 | 第84页 |