应变硅细—微观实验测量表征
| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 字母注释表 | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-20页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第13-16页 |
| 1.2 国内外研究动态 | 第16-18页 |
| 1.3 本文的主要工作 | 第18-20页 |
| 第二章 应变硅材料及其横截面样品的制备 | 第20-37页 |
| 2.1 应变硅材料的制备 | 第20-22页 |
| 2.2 应变硅的清洗 | 第22-25页 |
| 2.3 应变硅横截面样品的制备 | 第25-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 应变硅结构物性的多尺度实验分析 | 第37-52页 |
| 3.1 应变硅横截面样品的表面粗糙度测量 | 第37-39页 |
| 3.2 应变硅多层结构的材料物质分布实验分析 | 第39-44页 |
| 3.3 应变硅横截面样品的弹性模量变化规律测量 | 第44-45页 |
| 3.4 应变硅材料纳观结构的TEM分析 | 第45-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 应变硅的微拉曼力学分析 | 第52-67页 |
| 4.1 微拉曼实验 | 第52-54页 |
| 4.2 应变硅表面样品的微拉曼实验 | 第54-60页 |
| 4.3 应变硅横截面样品的微拉曼实验 | 第60-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 工作总结 | 第67页 |
| 5.2 进一步展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |