通过调整曝光镜头改善产品线宽均匀度的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 集成电路发展概述 | 第10-11页 |
| 1.2 光刻技术（LITHO）概述 | 第11-21页 |
| 1.2.1 光刻的原理 | 第12-17页 |
| 1.2.2 光刻的重要性 | 第17-19页 |
| 1.2.3 光刻机的种类 | 第19-21页 |
| 1.3 本论文的结构安排 | 第21-24页 |
| 第二章 光刻机发展历史及工作原理 | 第24-40页 |
| 2.1 光刻机发展历史及未来趋势 | 第24-28页 |
| 2.2 投影光刻机结构及工作原理 | 第28-39页 |
| 2.2.1 成像系统 | 第30-32页 |
| 2.2.2 工件台系统 | 第32-35页 |
| 2.2.3 对准系统 | 第35-37页 |
| 2.2.4 传输系统 | 第37-38页 |
| 2.2.5 环境控制系统 | 第38-39页 |
| 2.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 分析对比三种改善线宽均匀度的方法 | 第40-52页 |
| 3.1 提高视场尺寸内的光线均匀度 | 第40-46页 |
| 3.1.1 调整光源位置 | 第40-43页 |
| 3.1.2 光学镜片补偿 | 第43-45页 |
| 3.1.3 方案优缺点分析 | 第45-46页 |
| 3.2 改善曝光镜头透光均匀性 | 第46-47页 |
| 3.2.1 清洁曝光镜头及光学组件更换 | 第46-47页 |
| 3.2.2 方案优缺点分析 | 第47页 |
| 3.3 调整曝光镜头改善焦平面偏差 | 第47-51页 |
| 3.3.1 确认像面倾斜及像面失真 | 第47-49页 |
| 3.3.2 计算镜头调整补偿量 | 第49-50页 |
| 3.3.3 实施调整并收集数据 | 第50-51页 |
| 3.3.4 方案优缺点分析 | 第51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 光刻机镜头焦平面偏差精度改善方案 | 第52-64页 |
| 4.1 收集光刻机调整前值 | 第52-55页 |
| 4.2 实验方案设计 | 第55-56页 |
| 4.3 方案实施与验证 | 第56-62页 |
| 4.3.1 镜头调整补偿量模拟 | 第56-57页 |
| 4.3.2 镜头倍率及倾角调整 | 第57-58页 |
| 4.3.3 像面失真验证 | 第58-59页 |
| 4.3.4 焦平面偏差验证 | 第59-60页 |
| 4.3.5 实测结果分析 | 第60-62页 |
| 4.3.6 结果分析 | 第62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-68页 |
| 5.1 本文的主要贡献 | 第64-66页 |
| 5.2 下一步工作展望 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 在硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
