| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·研究意义 | 第9-11页 |
| ·试验设计在微电子领域中的研究现状 | 第11-12页 |
| ·本文主要工作 | 第12-15页 |
| 第二章 集成电路工艺过程的试验设计技术框架 | 第15-27页 |
| ·工艺过程的试验设计基本体系 | 第15-19页 |
| ·工艺过程采用试验设计的技术步骤 | 第15-18页 |
| ·关键工艺、响应目标值及工艺因子 | 第18-19页 |
| ·试验设计技术 | 第19-25页 |
| ·试验设计概述 | 第19-20页 |
| ·试验类型以及选择依据 | 第20-22页 |
| ·试验数据处理方法 | 第22-25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 基于元模型的电路参数成品率分析 | 第27-45页 |
| ·基本概念 | 第27-33页 |
| ·基于电路仿真的成品率估计 | 第27-29页 |
| ·基于 Kriging 元模型的成品率估计 | 第29-30页 |
| ·面向 Kriging 元模型的试验方案 | 第30-31页 |
| ·参数成品率估计实施步骤 | 第31-33页 |
| ·射频放大器成品率分析 | 第33-41页 |
| ·制定试验方案 | 第33-35页 |
| ·模型建立及预测能力评估 | 第35-37页 |
| ·基于模型 A-1 的射频放大器成品率分析 | 第37-38页 |
| ·基于模型 A-1 的置信区间成品率分析 | 第38-41页 |
| ·带隙基准成品率分析 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 基于元模型的电路参数成品率优化 | 第45-57页 |
| ·基本原理 | 第45-48页 |
| ·现今研究状况 | 第45-46页 |
| ·基于参数分布特征以及稳健性参数优化算法 | 第46-48页 |
| ·基于参数分布特征的成品率优化实例 | 第48-53页 |
| ·射频放大器参数成品率优化 | 第49-50页 |
| ·射频放大器参数成品率优化的进一步探讨 | 第50-52页 |
| ·带隙基准源参数成品率优化 | 第52-53页 |
| ·成品率的稳健参数优化 | 第53-56页 |
| ·噪声因子的引入 | 第54-55页 |
| ·试验数据处理 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 实现 LPCVD 工艺统计优化的试验设计关键技术 | 第57-69页 |
| ·当前工艺状态 | 第57-60页 |
| ·问题的提出 | 第57-58页 |
| ·薄膜的 LPCVD 工艺 | 第58-60页 |
| ·试验设计方案的制定 | 第60-67页 |
| ·目标值及输入因子的确定 | 第60-62页 |
| ·试验方案的选择 | 第62-65页 |
| ·试验数据测量方案 | 第65-66页 |
| ·试验数据处理的建议 | 第66-67页 |
| ·试验进行中遵循的原则 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 结束语 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 附录 表 A1 带隙基准源模型验证方案及仿真值 | 第77-78页 |