LCOS IC中金属点缺陷的形成机理及改善方法研究

摘要	第1-3页
Abstract	第3-5页
第一章 引言	第5-12页
·硅基液晶微显示器（LCOS）简介	第5-6页
·LCOS 芯片生产和设计的特殊要求	第6页
·LCOS 工艺简介	第6-8页
·LCOS 反射层主要缺陷的分析	第8-10页
·本论文研究目的、意义和组织结构	第10-12页
第二章 金属点缺陷的现状	第12-22页
·半导体制造工艺中的金属连线简介	第12-14页
·金属铝作为连线的主要缺陷	第14-18页
·铝铜合金的腐蚀性缺陷	第18-20页
·金属点缺陷的影响	第20-21页
·小结	第21-22页
第三章 金属点缺陷的形貌以及形成机理	第22-39页
·金属点缺陷的形貌分析	第23-30页
·金属点缺陷的形成机理	第30-31页
·金属点缺陷原理的实验验证	第31-37页
·电极存在的实验验证	第31-34页
·电解液的实验验证	第34-36页
·反应时间的实验验证	第36-37页
·小结	第37-39页
第四章 金属点缺陷改善措施的实验	第39-56页
·改善措施的选择	第40-41页
·实验设计	第41-44页
·实验结果	第44-52页
·明场光学探测缺陷扫描结果	第44-47页
·光学显微镜结果	第47-52页
·实验结果的讨论与小结	第52-56页
第五章 结论	第56-59页
·实验结论	第56-57页
·有待进一步研究的方向	第57-59页
参考文献	第59-61页
致谢	第61-62页
攻读学位期间发表的学术论文目录	第62-64页