Cd掺杂BZN薄膜的制备和性能研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
第一章 概述	第9-18页
·可调介电材料及其应用	第9-10页
·BZN 材料结构和性质	第10-13页
·BZN 薄膜的研究现状	第13-16页
·本论文的主要工作	第16-18页
第二章 实验基本原理	第18-29页
·CD 掺杂BZN 薄膜的制备方法	第18-22页
·溅射基本原理	第18-19页
·射频溅射原理	第19-21页
·磁控溅射原理	第21-22页
·CD 掺杂BZN 薄膜微观结构表征方法	第22-27页
·X 射线衍射原理	第22-24页
·AFM 的工作原理	第24-26页
·SEM 的工作原理	第26-27页
·CD 掺杂BZN 薄膜介电性能测试方法	第27-29页
第三章 CD 掺杂BZN 靶材的制备	第29-34页
·实验过程	第29-31页
·工艺的改进	第31-34页
第四章 CD 掺杂BZN 薄膜的制备及性能研究	第34-54页
·CD 掺杂BZN 薄膜基本制备工艺路线	第34-39页
·沉积温度对薄膜的结构和性能的影响	第39-43页
·气氛对薄膜结构和性能的影响	第43-50页
·O_2/Ar 比对薄膜结构和性能的影响	第43-46页
·溅射气体总压对薄膜结构和性能的影响	第46-48页
·退火气氛对薄膜结构和性能的影响	第48-50页
·二次退火对薄膜性能的影响	第50-52页
·不同CD 掺杂比例对薄膜性能的影响	第52-53页
·本章小结	第53-54页
第五章 结论	第54-55页
致谢	第55-56页
参考文献	第56-61页
在读期间发表的论文	第61-62页